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1. (WO2010007971) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/007971    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/062697
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 13.07.2009
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMOKAWA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
EBATA, Takuma [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAI, Kaori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OIZUMI, Yoshifumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SOYANO, Akimasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OTSUKA, Noboru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIMOKAWA, Tsutomu; (JP).
EBATA, Takuma; (JP).
SAKAI, Kaori; (JP).
OIZUMI, Yoshifumi; (JP).
SOYANO, Akimasa; (JP).
OTSUKA, Noboru; (JP)
Mandataire : WATANABE, Kazuhira; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-182274 14.07.2008 JP
2008-238962 18.09.2008 JP
2009-079446 27.03.2009 JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a radiation-sensitive resin composition which enables the production of a chemically amplified resist having excellent resolution performance and small nano edge roughness. The radiation-sensitive resin composition comprises (A) a radiation-sensitive acid generator having a partial structure represented by general formula (1) and (B) a resin. [In general formula (1), R1 represents a univalent hydrocarbon group, or the like.]
(FR)L'invention porte sur une composition de résine sensible au rayonnement qui permet la fabrication d'une réserve amplifiée chimiquement ayant une excellente performance de résolution et une petite nanorugosité de bord. La composition de résine sensible au rayonnement comprend (A) un générateur d'acide sensible au rayonnement ayant une structure partielle représentée par une formule générale (1) et (B) une résine. [Dans la formule générale (1), R1 représente un groupe hydrocarbure univalent, ou similaire.]
(JA) 解像性能に優れ、かつ、ナノエッジラフネスの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。  (A)下記一般式(1)で示される部分構造を有する感放射線性酸発生剤と、(B)樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物。 〔一般式(1)において、Rは1価の炭化水素基等を示す。〕
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)