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1. (WO2010007915) COMPOSITION DE PRODUIT DE RÉSERVE DE TYPE POSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICROLENTILLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/007915    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/062379
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 07.07.2009
CIB :
G03F 7/023 (2006.01), C08F 12/32 (2006.01), G02B 1/04 (2006.01), G02B 3/00 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
YUKAWA, Shojiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KISHIOKA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAGUCHI, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SODA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YUKAWA, Shojiro; (JP).
KISHIOKA, Takahiro; (JP).
SAKAGUCHI, Takahiro; (JP).
SODA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-184524 16.07.2008 JP
Titre (EN) POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCTION OF MICROLENS
(FR) COMPOSITION DE PRODUIT DE RÉSERVE DE TYPE POSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICROLENTILLE
(JA) ポジ型レジスト組成物及びマイクロレンズの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a positive-type resist composition particularly for forming a microlens or a planarization film having excellent transparency, excellent heat resistance and an excellent refractive index.  Also disclosed are a microlens and a planarization film each of which is formed from the positive-type resist composition. The positive-type resist composition comprises the following components (A), (B) and (C): (A) an alkali-soluble polymer which contains a unit structure having a biphenyl structure; (B) a compound having an organic group which can be photolyzed to produce an alkali-soluble group; and (C) a solvent.  In the positive-type resist composition, the alkali-soluble polymer (A) contains a unit structure represented by formula (1), wherein the content ratio (n1) of the unit structure represented by formula (1) meets the requirement represented by the following formula: 0.3≤n1≤1.0 when the total number of unit structures constituting the polymer (A) is taken as 1.0.
(FR)L'invention porte sur une composition de produit de réserve de type positif en particulier pour former une microlentille ou un film de planarisation ayant une excellente transparence, une excellente résistance à la chaleur et un excellent indice de réfraction. L'invention porte également sur une microlentille et sur un film de planarisation dont chacun est formé à partir de la composition de produit de réserve de type positif. La composition de produit de réserve de type positif comprend les composants suivants (A), (B) et (C) : (A) un polymère soluble en milieu alcalin qui contient une structure unitaire ayant une structure biphényle; (B) un composé ayant un groupe organique qui peut être photolysé pour produire un groupe soluble en milieu alcalin; et (C) un solvant. Dans la composition de produit de réserve de type positif, le polymère soluble en milieu alcalin (A) contient une structure unitaire représentée par la formule (1), le rapport de contenu (n1) de la structure unitaire représentée par la formule (1) satisfaisant l'exigence représentée par la formule suivante : 0,3 ≤ n1 ≤ 1,0 lorsque le nombre total de structures unitaires constituant le polymère (A) est pris comme étant 1,0.
(JA)【課題】 透明性、耐熱性及び屈折率に優れた特にマイクロレンズ形成用並びに平坦化膜形成用のポジ型レジスト組成物、及びそれから形成されるマイクロレンズ並びに平坦化膜を提供する。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分、及び(C)成分: (A)成分:ビフェニル構造を有する単位構造を含むアルカリ可溶性ポリマー、 (B)成分:光分解しアルカリ可溶性基を生ずる有機基を有する化合物、 (C)成分:溶剤、を含むポジ型レジスト組成物。  (A)成分のアルカリ可溶性ポリマーが式(1): で表される単位構造を含み、ポリマー(A)を構成する単位構造の総数を1.0とした時に、ポリマー(A)を構成する式(1)で表される単位構造の割合n1が0.3≦n1≦1.0を満たすポリマーである上記ポジ型レジスト組成物である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)