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1. (WO2010007797) ARNSH HAUTEMENT ACTIF ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/007797    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/003375
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 17.07.2009
CIB :
C12N 15/09 (2006.01)
Déposants : THE UNIVERSITY OF TOKYO [JP/JP]; 3-1, Hongo 7-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1138654 (JP) (Tous Sauf US).
JAPAN BIOLOGICAL INFORMATICS CONSORTIUM [JP/JP]; 45, Aomi 2-chome, Koto-ku, Tokyo 1358073 (JP) (Tous Sauf US).
SUZUKI, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATOH, Takayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUZUKI, Tsutomu; (JP).
KATOH, Takayuki; (JP)
Mandataire : SIKs & Co.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-186775 18.07.2008 JP
Titre (EN) HIGHLY ACTIVE SHRNA AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) ARNSH HAUTEMENT ACTIF ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 高活性shRNA及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The object aims to reveal the cleavage pattern of double-stranded RNA with Dicer, and to provide siRNA which can be cleaved with Dicer so as to produce a specific sequence and a method for producing the siRNA.  Disclosed is hairpin RNA (shRNA) which is characterized by comprising a first target sequence, a first stem sequence, a sequence capable of forming a loop, a second stem sequence, a second target sequence, and an overhung sequence in this order in the 5’→3’ direction, wherein the first target sequence and the second target sequence are annealed to each other in the molecule to form a complementarily bound strand, the first stem sequence and the second stem sequence are annealed to each other in the molecule to form a complementarily bound strand, and one of the first stem sequence and the second stem sequence contains one bulge base that does not anneal to nucleotides in the other of the first stem sequence and the second stem sequence, or DNA encoding the hairpin RNA.
(FR)L'invention vise à révéler le motif de clivage d'un ARN double brin par Dicer, et à proposer un ARNsi qui peut être clivé par Dicer de façon à produire une séquence spécifique, et un procédé de production de l'ARNsi. L'invention porte sur un ARN en épingle à cheveux (ARNsh) qui est caractérisé par le fait qu'il comprend une première séquence cible, une première séquence tige, une séquence capable de former une boucle, une seconde séquence tige, une seconde séquence cible, et une séquence en porte-à-faux dans cet ordre dans la direction 5'→3', la première séquence cible et la seconde séquence cible étant hybridées l'une à l'autre dans la molécule pour former un brin lié de façon complémentaire, la première séquence tige et la seconde séquence tige étant annelées l'une à l'autre dans la molécule pour former un brin lié de façon complémentaire, et l'une de la première séquence tige et de la seconde séquence tige contenant une base de renflement qui ne s'annèle pas aux nucléotides dans l'autre de la première séquence tige et de la seconde séquence tige, ou un ADN codant pour l'ARN en épingle à cheveux.
(JA) 本発明の目的は、Dicerによる2本鎖RNAの切断パターンを明らかにし、Dicerによって特定の配列に切断されるようなsiRNA及びその製造方法を提供することである。本発明によれば、5’から3’方向に、第一のターゲット配列、第一のステム配列、ループを形成する配列、第二のステム配列、第二のターゲット配列、及びオーバーハング配列をこの順番で含み、第一のターゲット配列と第二のターゲット配列は分子内で互いにアニーリングして相補鎖を形成する配列であり、第一のステム配列と第二のステム配列は分子内で互いにアニーリングして相補鎖を形成する配列であり、上記第一のステム配列又は上記第二のステム配列の片方の中に、第一のステム配列又は上記第二のステム配列の他方の塩基とはアニーリングしない1個のバルジ塩基を有していることを特徴とするヘアピン型RNA(shRNA)、又はそれをコードするDNAが提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)