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1. (WO2010007725) PLAQUE SUPÉRIEURE POUR DISPOSITIF DE CUISINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/007725    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/002690
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 13.06.2009
CIB :
C03C 17/36 (2006.01), F24C 15/10 (2006.01), H05B 6/12 (2006.01)
Déposants : NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP) (Tous Sauf US).
IKEGAMI, Koji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANAI, Toshimasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IKEGAMI, Koji; (JP).
KANAI, Toshimasa; (JP)
Mandataire : METSUGI, Makoto; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-187391 18.07.2008 JP
Titre (EN) TOP PLATE FOR COOKING DEVICE
(FR) PLAQUE SUPÉRIEURE POUR DISPOSITIF DE CUISINE
(JA) 調理器用トッププレート
Abrégé : front page image
(EN)A top plate for a cooking device is provided, the top plate having a low transmittance in the visible wavelength region, and a high transmittance in the infrared wavelength region of 3500 to 4000nm. A top plate (1) for a cooking device includes a glass substrate (10), and a laminated film (2) formed on the glass substrate (10), the laminated film (2) including a Si film (11) and a silicon nitride film (12).  In fig. 1, which shows the relationship between the film thicknesses t1 and t2, where t1 and t2 denote the film thickness of the Si film (11) and the film thickness of the silicon nitride film (12) respectively, (t1, t2) fall within the range X formed by sequentially connecting dots (A1) to (A36) with straight lines.
(FR)L’invention concerne une plaque supérieure pour un dispositif de cuisine, la plaque supérieure présentant un facteur de transmission faible dans la région des longueurs d’ondes visibles, et un facteur de transmission élevé dans la région des longueurs d’ondes infrarouges de 3500 à 4000 nm. Une telle plaque supérieure (1) pour dispositif de cuisine comprend un substrat de verre (10), et une pellicule stratifiée (2) disposée sur le substrat de verre (10), la pellicule stratifiée (2) comprenant une pellicule de Si (11) et une pellicule de nitrure de silicium (12).  La Fig. 1 illustre la relation entre les épaisseurs des pellicules t1 et t2, où t1 et t2 représentent respectivement l’épaisseur de la pellicule de Si (11) et l’épaisseur de la pellicule de nitrure de silicium (12), (t1, t2) existant dans la plage X formée en connectant séquentiellement les points (A1) à (A36) avec des lignes droites.
(JA) 可視波長領域における透過率が低く、かつ3500~4000nmの赤外波長領域における透過率が高い調理器用トッププレートを提供する。  調理器用トッププレート1は、ガラス基板10と、ガラス基板10の上に形成されたSi膜11及び窒化ケイ素膜12からなる積層膜2とを備えている。Si膜11の膜厚をt、窒化ケイ素膜12の膜厚をtとしたとき、Si膜の膜厚tと窒化ケイ素膜の膜厚tとの関係を表す図1において、(t、t)が表1で表される点A1~A36を順次直線で結んで形成される範囲X内にあることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)