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1. (WO2010006920) SYSTÈME DE PRODUCTION DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/006920    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/058178
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 30.06.2009
CIB :
H05H 1/24 (2006.01), A61L 2/14 (2006.01)
Déposants : REINHAUSEN PLASMA GMBH [DE/DE]; Weidener Straße 20 93057 Regensburg (DE) (Tous Sauf US).
BISGES, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KRÜGER, Thorsten [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WICHMANN, Patrick [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ARNING, Hans-Jürgen [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BISGES, Michael; (DE).
KRÜGER, Thorsten; (DE).
WICHMANN, Patrick; (DE).
ARNING, Hans-Jürgen; (DE)
Mandataire : KOHLMANN, Kai; Donatusstrasse 1 52078 Aachen (DE)
Données relatives à la priorité :
20 2008 008 731.7 02.07.2008 DE
Titre (DE) ANORDNUNG ZUR HERSTELLUNG VON PLASMA
(EN) APPARATUS FOR PRODUCING PLASMA
(FR) SYSTÈME DE PRODUCTION DE PLASMA
Abrégé : front page image
(DE)Eine Anordnung zur Herstellung von Plasma, umfasst einen Behälter (2) an dem zumindest eine Entladungselektrode (4) vorgesehen ist, und eine Spannungsversorgungseinheit (5), die mindestens eine Einkopplungselektrode (7) aufweist, die kapazitiv mit der Entladungselektrode (4) koppelbar ist, wobei die Spannungsversorgungseinheit (5) von dem Behälter (2) abnehmbar ausgebildet ist und die mindestens eine Einkopplungselektrode (7) unter einer Isolierschicht (8) angeordnet ist. Dadurch kann nach dem Abnehmen der Spannungsversorgungseinheit (5) der Benutzer nicht unmittelbar in Kontakt mit einer Einkopplungselektrode (7) gelangen.
(EN)An apparatus for producing plasma, comprising a container (2) provided with at least one discharge electrode (4) and a power supply unit (5) that comprises at least one coupling electrode (7) that can be capacitively coupled to the discharge electrode (4), wherein the power supply unit (5) is adapted to be removable from the container (2) and wherein the at least one coupling electrode (7) is disposed beneath an insulating layer (8). In this way, the user can not come into direct contact with a coupling electrode (7) after removing the power supply unit (5).
(FR)L'invention concerne un système permettant de produire du plasma, qui comprend un récipient (2) sur lequel est prévue une électrode de décharge (4) et une unité d'alimentation en courant (5) présentant au moins une électrode d'injection (7) qui peut être couplée de manière capacitive avec l'électrode de décharge (4). L'unité d'alimentation en courant (5) est conçue de manière à pouvoir être ôtée du récipient (2) et l'électrode d'injection (7) est montée en dessous d'une couche isolante (8), ce qui permet à l'utilisateur de ne pas être en contact direct avec une électrode d'injection (7) après retrait de l'unité d'alimentation en courant (5).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)