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1. (WO2010006849) PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UN COMPOSANT, PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UN SYSTÈME DE COMPOSANTS, COMPOSANT ET SYSTÈME DE COMPOSANTS CORRESPONDANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/006849    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/057106
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 09.06.2009
CIB :
B81B 7/00 (2006.01)
Déposants : ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE) (Tous Sauf US).
KRAMER, Torsten [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
PINTER, Stefan [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BENZEL, Hubert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ILLING, Matthias [US/US]; (US) (US Seulement).
HAAG, Frieder [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ARMBRUSTER, Simon [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : KRAMER, Torsten; (DE).
PINTER, Stefan; (DE).
BENZEL, Hubert; (DE).
ILLING, Matthias; (US).
HAAG, Frieder; (DE).
ARMBRUSTER, Simon; (DE)
Représentant
commun :
ROBERT BOSCH GMBH; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 040 521.3 18.07.2008 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES BAUELEMENTS, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER BAUELEMENTANORDNUNG, BAUELEMENT UND BAUELEMENTANORDNUNG
(EN) PROCESS FOR MANUFACTURING A COMPONENT, PROCESS FOR MANUFACTURING A COMPONENT ARRANGEMENT, COMPONENT AND COMPONENT ARRANGEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UN COMPOSANT, PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UN SYSTÈME DE COMPOSANTS, COMPOSANT ET SYSTÈME DE COMPOSANTS CORRESPONDANTS
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Bauelements vorgeschlagen, wobei in einem ersten Herstellungsschritt eine Grundstruktur mit einem Substrat, einer Membran und einem Kavernenbereich bereitgestellt wird, wobei die Membran im Wesentlichen parallel zu einer Haupterstreckungsebene des Substrats angeordnet ist, wobei zwischen dem Substrat und der Membran der Kavernenbereich angeordnet ist, wobei der Kavernenbereich eine Zugangsöffnung aufweist und wobei in einem zweiten Herstellungsschritt im Kavernenbereich und insbesondere auf einer dem Substrat senkrecht zur Haupterstreckungsebene zugewandten zweiten Seite der Membran eine erste Leitschicht zumindest teilweise angeordnet wird.
(EN)The invention proposes a process for manufacturing a component, wherein, in a first manufacturing step, a basic structure having a substrate, a membrane and a cavern region is provided, wherein the membrane is arranged substantially parallel to a plane of principal extent of the substrate, wherein the cavern region is arranged between the substrate and the membrane, wherein the cavern region has an access opening and wherein, in a second manufacturing step, a first conductive layer is arranged at least partially in the cavern region and, in particular, on a second side of the membrane which faces towards the substrate perpendicularly to the plane of principal extent.
(FR)La présente invention concerne un procédé de réalisation d'un composant, une première étape du procédé de réalisation consistant à fournir une structure de base comprenant un substrat, une membrane et une zone de cavité. Selon l'invention, la membrane est disposée sensiblement parallèlement à un plan d'extension principale du substrat, la zone de cavité est disposée entre le substrat et la membrane, et la zone de cavité présente une ouverture d'accès. Une deuxième étape du procédé de réalisation consiste à appliquer au moins partiellement une première couche conductrice dans la zone de cavité et en particulier sur un second côté de la membrane, orienté vers le substrat perpendiculairement au plan d'extension principale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)