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1. (WO2010006067) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'USINAGE LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/006067    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/049961
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 08.07.2009
CIB :
B23K 26/36 (2006.01), B23K 26/42 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), B23K 26/12 (2006.01)
Déposants : FEI COMPANY [US/US]; 5350 NE Dawson Creek Dr. Hillsboro, OR 97124 (US) (Tous Sauf US).
STRAW, Marcus [US/US]; (US) (US Seulement).
TOTH, Milos [AU/US]; (US) (US Seulement).
UTLAUT, Mark [US/US]; (US) (US Seulement).
NARUM, David, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
KNIPPELS, Guido [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VEEN, Gerardus Nicolaas Anne van [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : STRAW, Marcus; (US).
TOTH, Milos; (US).
UTLAUT, Mark; (US).
NARUM, David, H.; (US).
KNIPPELS, Guido; (NL).
VEEN, Gerardus Nicolaas Anne van; (NL)
Mandataire : SCHEINBERG, Michael; (US)
Données relatives à la priorité :
61/079,304 09.07.2008 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR LASER MACHINING
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'USINAGE LASER
Abrégé : front page image
(EN)Laser processing is enhanced by using endpointing or by using a charged particle beam together with a laser. Endpointing uses emissions, such as photons, electrons, ions, or neutral particles, from the substrate to determine when the material under the laser has changed or is about to change. Material removed from the sample can be deflected to avoid deposition onto the laser optics.
(FR)L'invention porte sur le traitement laser, renforcé par utilisation du mode point final ou par utilisation d'un faisceau de particules chargées en même temps qu'un laser. Le mode point final utilise des émissions, telles que des photons, des électrons, des ions ou des particules neutres, provenant du substrat pour déterminer quand le matériau situé sous le laser a subi une modification ou est sur le point de se modifier. Le matériau éliminé de l'échantillon peut être dévié pour éviter un dépôt sur les éléments optiques du système laser.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)