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1. (WO2010005957) OPTIMISATION D'ÉCLAIRAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/005957    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/049792
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 07.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : BRION TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 4211 Burton Drive Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
YE, Jun [US/US]; (US) (US Seulement).
CAO, Yu [US/US]; (US) (US Seulement).
FENG, Hanying [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : YE, Jun; (US).
CAO, Yu; (US).
FENG, Hanying; (US)
Mandataire : DANIELSON, Mark, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/078,599 07.07.2008 US
1036189 12.11.2008 NL
2008-305942 01.12.2008 JP
Titre (EN) ILLUMINATION OPTIMIZATION
(FR) OPTIMISATION D'ÉCLAIRAGE
Abrégé : front page image
(EN)A method of optimizing an illumination pupil shape for a lithographic process 1 comprises identifying a target pattern (206) to be imaged by said lithographic process. It further comprises identifying at least one optimization point (262) in said target pattern and identifying at least one design for manufacturing metric (270) per optimization point. Additionally it comprises selecting a set of illumination source points (274) based on the identified at least one design for manufacturing metric and determining the illumination pupil shape (284) based on the selected set of illumination source points.
(FR)L'invention porte sur un procédé d'optimisation d'une forme de pupille d'éclairage pour un traitement lithographique 1, le procédé comprenant l'identification d'un motif cible (206) devant être imagé par ledit traitement lithographique. Le procédé comprend en outre l'identification d'au moins un point d'optimisation (262) dans ledit motif cible et l'identification d'au moins une conception pour une métrique de fabrication (270) par point d'optimisation. De plus, il comprend la sélection d'un ensemble de points de source d'éclairage (274) sur la base de la ou des conceptions identifiées pour une métrique de fabrication et la détermination de la forme de pupille d'éclairage (284) sur la base de l'ensemble sélectionné de points de source d'éclairage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)