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1. (WO2010005932) DISPOSITIF SONDE REGARDANT LE PLASMA COMPORTANT UN ESPACE VIDE À UTILISER DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/005932    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/049760
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 07.07.2009
CIB :
H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
BOOTH, Jean-Paul [FR/US]; (US) (US Seulement).
KEIL, Douglas, L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BOOTH, Jean-Paul; (US).
KEIL, Douglas, L.; (US)
Mandataire : NGUYEN, Joseph, A.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/078,745 07.07.2008 US
Titre (EN) PLASMA-FACING PROBE ARRANGEMENT INCLUDING VACUUM GAP FOR USE IN A PLASMA PROCESSING CHAMBER
(FR) DISPOSITIF SONDE REGARDANT LE PLASMA COMPORTANT UN ESPACE VIDE À UTILISER DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)An arrangement for measuring process parameters within a processing chamber is provided. The arrangement includes a probe arrangement disposed in an opening of an upper electrode. Probe arrangement includes a probe head, which includes a head portion and a flange portion. The arrangement also includes an o-ring disposed between the upper electrode and the flange portion. The arrangement further includes a spacer made of an electrically insulative material positioned between the head portion and the opening of the upper electrode to prevent the probe arrangement from touching the upper electrode. The spacer includes a disk portion configured for supporting an underside of the flange portion. The spacer also includes a hollow cylindrical portion configured to encircle the head portion. The spacer forms a right-angled path between the o-ring and an opening to the processing chamber to prevent direct line-of-sight path between the o-ring and the opening to the processing chamber.
(FR)L'invention concerne un dispositif permettant de mesurer des paramètres de fonctionnement à l'intérieur d'une chambre de traitement. Le dispositif comporte un dispositif sonde placé dans une ouverture d'une électrode supérieure. Le dispositif sonde comporte une tête de sonde, qui comporte une partie tête et une partie bride. Le dispositif comporte également un joint torique placé entre l'électrode supérieure et la partie bride. Le dispositif comporte en outre un espaceur à base d'un matériau isolant placé entre la partie tête et l'ouverture de l'électrode supérieure pour empêcher le dispositif sonde de toucher l'électrode supérieure. L'espaceur comporte une partie disque conçue pour supporter un côté inférieur de la partie bride. L'espaceur comporte également une partie cylindrique creuse destinée à entourer la partie tête. L'espaceur forme un chemin à angle droit entre le joint torique et l'ouverture en direction de la chambre de traitement afin d'empêcher un chemin en ligne de visée directe entre le joint torique et l'ouverture vers la chambre de traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)