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1. (WO2010005831) FORMATION DE MOTIFS EN ÉCHELLE DE GRIS SUR DES FILMS MINCES DE POLYMÈRES PAR PHOTOLITHOGRAPHIE MULTIPHOTONIQUE À ÉCRITURE DIRECTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/005831    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/049207
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 30.06.2009
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : KANSAS STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION [US/US]; 2005 Research Park Circle Suite 105 Manhattan, KS 66502 (US) (Tous Sauf US).
HIGGINS, Daniel, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
ITO, Takashi [JP/US]; (US) (US Seulement).
YAO, Xiao [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HIGGINS, Daniel, A.; (US).
ITO, Takashi; (US).
YAO, Xiao; (US)
Mandataire : SKOCH, Gregory, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/078,698 07.07.2008 US
Titre (EN) GRAYSCALE PATTERNING OF POLYMER THIN FILMS USING DIRECT-WRITE MULTIPHOTON PHOTOLITHOGRAPHY
(FR) FORMATION DE MOTIFS EN ÉCHELLE DE GRIS SUR DES FILMS MINCES DE POLYMÈRES PAR PHOTOLITHOGRAPHIE MULTIPHOTONIQUE À ÉCRITURE DIRECTE
Abrégé : front page image
(EN)Improved, high resolution, laser ablated grayscale assembles (A) are provided including a substrate (24a) and a polymer layer (24b) having an etched region (R) presenting areas of different, predetermined thicknesses. Preferably, the region (R) exhibits a maximum RMS roughness value of up to about 5 ran. The fabrication method involves providing a sample (24) having a substrate (24a) and polymer layer (24b), and laser ablating the layer (24b) by multiphoton photolithography to give the different thickness areas characteristic of a desired grayscale pattern. Preferably, the fabrication involves transmissivc laser ablation wherein the incident laser beam is transmitted through the substrate (24a) to ablate the layer (24b). Advantageously, the polymer layer (24b) comprises a poly(alkylene dioxythiophene):poly(styrene sulfonate) mixture.
(FR)Cette invention concerne des ensembles en échelle de gris (A) améliorés, haute résolution, obtenus par ablation laser comprenant un substrat (24a) et une couche de polymère (24b) contenant une région gravée (R) présentant des zones de différentes épaisseurs prédéterminées. De préférence, la région (R) présente une valeur de rugosité RMS maximale pouvant aller jusqu'à environ 5 ran. Le procédé de fabrication comprend la préparation d'un échantillon (24) comprenant un substrat (24a) et une couche de polymère (24b), et l'ablation par laser de la couche de polymère (24b) par photolithographie multiphotonique pour obtenir des zones de différentes épaisseurs caractéristiques d'un motif en échelle de gris souhaité. De préférence, la fabrication implique une ablation laser par transmission, le faisceau laser incident étant transmis à travers le substrat (24a) pour réaliser l'ablation de la couche (24b). De manière avantageuse, la couche de polymère (24b) comprend un mélange poly(alkylène dioxythiophène):polysulfonate de styrène.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)