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1. (WO2010004914) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS CRITIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/004914    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/061958
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 30.06.2009
CIB :
G01N 21/956 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Déposants : SASAI Masatoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MEGA TRADE CORP. [JP/JP]; Dangawara-cho 5, Takeda, Fushimi-ku, Kyoto-city Kyoto 6128414 (JP) (Tous Sauf US)
Inventeurs : SASAI Masatoshi; (JP)
Mandataire : KURU Toru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-181373 11.07.2008 JP
Titre (EN) CRITICAL FLAW DETECTING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS CRITIQUES
(JA) 致命傷の検出方法
Abrégé : front page image
(EN)Only a critical flaw is extracted by erasing the regular pattern such as a polishing flaw even if the direction of the pattern is not known. Luminance information about the pixels lined in a first examination direction D1 in a small examination region (SQ) of an image captured by an imaging means (3) is acquired.  The first examination direction D1 is varied, and the direction in which the luminance variation in a direction perpendicular to the first examination direction D1 is larger than a predetermined value is found.  The acquired luminance is flattened by using the luminance in the direction perpendicular to the found direction.  Consequently, when the direction of a polishing flaw (21) coincides with the first examination direction D1 in which the luminance information is acquired, the difference between the luminance in the direction of the polishing flaw (21) and that in the direction perpendicular to the first examination direction is the largest one.  Thus, the direction of the polishing flaw (21) can be found out.
(FR)L'invention porte sur un procédé de détection de défauts critiques, dans lequel un seul défaut critique est extrait par effacement du motif régulier, tel qu'un défaut de polissage, même si la direction du motif n'est pas connue. On acquiert des informations de luminance, concernant les pixels alignés dans une première direction d'examen D1 dans une petite région d'examen (SQ) d'une image captée en utilisant un moyen d'imagerie (3). On fait varier la première direction d'examen D1, et on trouve la direction dans laquelle la variation de luminance dans une direction perpendiculaire à la première direction d'examen D1 est supérieure à une valeur prédéterminée. La luminance acquise est aplanie par utilisation de la luminance dans la direction perpendiculaire à la direction trouvée. En conséquence, quand la direction d'un défaut de polissage (21) coïncide avec la première direction d'examen D1 dans laquelle les informations de luminance sont acquises, la différence entre la luminance dans la direction du défaut de polissage (21) et celle dans la direction perpendiculaire à la première direction d'examen est la plus grande. Ainsi, on peut détecter la direction du défaut de polissage (21).
(JA)【課題】研磨傷などのように規則性のある模様の方向が分からない場合であってもその模様を消去して致命傷のみを抽出する。 【解決手段】画像取得手段3によって取得された画像の微小検査領域SQ内で第一の検査方向D1に並ぶ画素の輝度情報を取得し、この第一の検査方向D1を変化させることによって当該第一の検査方向D1と直交する方向における輝度変化値が所定値よりも大きな方向を検出する。そして、この検出された方向と直交する方向における輝度に基づいて前記取得された輝度を平坦化させるようにしたので、研磨傷21の方向と輝度情報を取得する第一の検査方向D1とが一致した場合に、その方向と直交する方向における輝度が最も大きく変化するため、研磨傷21の方向を検出する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)