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1. (WO2010004900) PROCÉDÉ DE MESURE DE POSITION, ET PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/004900    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/061856
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 29.06.2009
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
KATO Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKAWA Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIZUHASHI Kensuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KATO Masaki; (JP).
OKAWA Tomoyuki; (JP).
MIZUHASHI Kensuke; (JP)
Mandataire : OMORI Satoshi; Omori Patent Office, 2075-2-501, Noborito, Tama-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2140014 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-179622 09.07.2008 JP
Titre (EN) POSITION MEASURING METHOD, AND EXPOSURE METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE POSITION, ET PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'EXPOSITION
(JA) 位置計測方法、並びに露光方法及び装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a position measuring method capable of correcting straightness information relating to a reflection plane used for measuring position information relating to a mobile object in a short time.  The position measuring method for measuring the position of a plate stage (PST) by means of a moving mirror (51Y) comprises a step for acquiring first straightness information relating to the moving mirror (51Y) by repeating the movement of the plate stage (PST) in the X direction and the position measurement of the moving mirror (51Y) in the Y direction a first number of times, a step for acquiring second straightness information relating to the moving mirror (51Y) by repeating the movement of the plate stage (PST) in the X direction and the position measurement of the moving mirror (51Y) in the Y direction a second number of times smaller than the first number of times, and a step for correcting the first straightness information with the second straightness information.
(FR)L'invention porte sur un procédé de mesure de position qui est capable de corriger des informations de rectitude relatives à un plan de réflexion utilisé pour mesurer des informations de position relatives à un objet mobile en une courte durée. Le procédé de mesure de position pour mesurer la position d'une platine de plaque (PST) au moyen d'un miroir mobile (51Y) comporte une étape d'acquisition de premières informations de rectitude relatives au miroir mobile (51Y) en répétant le mouvement de la platine de plaque (PST) dans la direction X et la mesure de position du miroir mobile (51Y) dans la direction Y un premier nombre de fois, une étape d'acquisition de secondes informations de rectitude relatives au miroir mobile (51Y) en répétant le mouvement de la platine de plaque (PST) dans la direction X et la mesure de position du miroir mobile (51Y) dans la direction Y un second nombre de fois inférieur au premier nombre de fois, et une étape de correction des premières informations de rectitude à l'aide des secondes informations de rectitude.
(JA) 移動体の位置情報の計測に用いる反射面の真直度情報を短時間で補正できる位置計測方法である。プレートステージ(PST)の位置を移動鏡(51Y)を介して計測する位置計測方法であって、プレートステージ(PST)のX方向への移動と、移動鏡(51Y)のY方向の位置計測とを第1の回数だけ繰り返して、移動鏡(51Y)の第1の真直度情報を求める工程と、プレートステージ(PST)のX方向への移動と、移動鏡(51Y)のY方向の位置計測とを第1の回数より少ない第2の回数だけ繰り返して、移動鏡(51Y)の第2の真直度情報を求める工程と、第2の真直度情報で第1の真直度情報を補正する工程とを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)