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1. (WO2010002679) PROCÉDÉ DE FORMATION D’UNE MICROSTRUCTURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/002679    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/048571
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 25.06.2009
CIB :
C23C 18/16 (2006.01), H05K 3/12 (2006.01), H05K 3/24 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3m Center Post Office Box 33427 Saint Paul, MN 55133-3427 (US) (Tous Sauf US).
STAY, Matthew, S. [US/US]; (US) (US Seulement).
PEKUROVSKY, Mikail L. [US/US]; (US) (US Seulement).
MORA, Cristin, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
FREY Matthew H. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : STAY, Matthew, S.; (US).
PEKUROVSKY, Mikail L.; (US).
MORA, Cristin, E.; (US).
FREY Matthew H.; (US)
Mandataire : WOLF, Stephen F.; 3m Center Office Of Intellectual Property Counsel Post Office Box 33427 Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
61/076,731 30.06.2008 US
Titre (EN) METHOD OF FORMING A MICROSTRUCTURE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D’UNE MICROSTRUCTURE
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure describes an article and a method of forming a microstructure. The method includes providing a substrate having a structured surface region comprising one or more recessed features with recessed surfaces. The structured surface region is substantially free of plateaus. The method includes disposing a fluid composition comprising a functional material and a liquid onto the structured surface region. The method includes evaporating liquid from the fluid composition. The functional material collects on the recessed surfaces such that a remainder of the structured surface region is substantially free of the functional material.
(FR)La présente invention concerne un article et un procédé de formation d’une microstructure. Le procédé consiste à utiliser un substrat comportant une zone de surface structurée comprenant une ou plusieurs caractéristiques en retrait avec des surfaces en retrait. La zone de surface structurée est sensiblement dépourvue de plateaux. Le procédé consiste à disposer une composition fluide comprenant un matériau fonctionnel et un liquide sur la zone de surface structurée. Le procédé consiste à évaporer le liquide de la composition fluide. Le matériau fonctionnel se collecte sur les surfaces en retrait de sorte qu’un reste de la zone de surface structurée est sensiblement dépourvu du matériau fonctionnel.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)