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1. (WO2010002194) PRODUIT DE DÉCAPAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN AFFICHEUR À L'AIDE DE CE PRODUIT DE DÉCAPAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/002194    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/003599
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 01.07.2009
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
Déposants : DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. [KR/KR]; 472-2 Gajwa-dong, Seo-gu Incheon-city 404-250 (KR) (Tous Sauf US).
HONG, Sun-Young [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
PARK, Hong-Sick [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHOUNG, Jong-Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Ji-Sun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SUH, Nam-Seok [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Bong-Kyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHOI, Young-Joo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Byeong-Jin [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Byung-Uk [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JEONG, Jong-Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YOON, Suk-Il [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SHIN, Sung-Gun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HUH, Soon-Beom [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JUNG, Se-Hwan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JANG, Doo-Young [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : HONG, Sun-Young; (KR).
PARK, Hong-Sick; (KR).
CHOUNG, Jong-Hyun; (KR).
LEE, Ji-Sun; (KR).
SUH, Nam-Seok; (KR).
KIM, Bong-Kyun; (KR).
CHOI, Young-Joo; (KR).
LEE, Byeong-Jin; (KR).
KIM, Byung-Uk; (KR).
JEONG, Jong-Hyun; (KR).
YOON, Suk-Il; (KR).
SHIN, Sung-Gun; (KR).
HUH, Soon-Beom; (KR).
JUNG, Se-Hwan; (KR).
JANG, Doo-Young; (KR)
Mandataire : PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; Seolim Bldg., 649-10 Yoksam-dong, Kangnam-ku Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0063461 01.07.2008 KR
Titre (EN) STRIPPING AGENT AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY PANEL USING THE STRIPPING AGENT
(FR) PRODUIT DE DÉCAPAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN AFFICHEUR À L'AIDE DE CE PRODUIT DE DÉCAPAGE
(KO) 박리제 및 상기 박리제를 사용한 표시판의 제조 방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for manufacturing a display panel including the steps of forming a stripping agent containing a cyclic amine compound of 1 to 20 wt %, a glycol ether compound of 10 to 90 wt %, and a remainder polar solvent, and forming a gate electrode, forming a gate insulation layer on the gate electrode, forming a semiconductor on the gate insulation layer, forming a source electrode and a drain electrode on the semiconductor, forming a color filter on the source electrode and the drain electrode, forming an insulation layer on the color filter, and forming a pixel electrode on the insulation layer. At least one of the steps of forming an insulation layer and the step of forming a pixel electrode includes the steps of depositing a photosensitive layer, exposing the photosensitive layer to light to form a plurality of photosensitive patterns, performing an etching process by using the photosensitive patterns, and stripping off the photosensitive patterns. The step of stripping off the photosensitive patterns uses a stripping agent containing a cyclic amine compound of 1 to 20 wt %, a glycol ether compound of 10 to 90 wt %, and a remainder polar solvent.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un afficheur consistant à préparer un produit de décapage contenant de 1 à 20 % en poids d'un composé amine cyclique et de 10 à 90 % en poids d'un composé d'éther glycolique, le reste étant un solvant polaire, et à former une électrode grille, à former une couche isolante de grille sur l'électrode grille, à former un semi-conducteur sur la couche isolante de grille, à former une électrode source et une électrode drain sur le semi-conducteur, à former un filtre de couleur sur l'électrode source et sur l'électrode drain, à former une couche isolante sur le filtre de couleur et à former une électrode de pixel sur la couche isolante. L'une au moins des étapes consistant, pour l'une, à former une couche isolante et, pour l'autre, à former une électrode de pixel, consiste à déposer une couche photosensible, à exposer la couche photosensible à la lumière pour former une pluralité de motifs photosensibles, à effectuer un processus d'attaque en utilisant les motifs photosensibles et à décaper les motifs photosensibles. L'étape de décapage des motifs photosensibles utilise un produit de décapage contenant de 1 à 20 % en poids d'un composé amine cyclique et de 10 à 90 % en poids d'un composé d'éther glycolique, le reste étant un solvant polaire.
(KO)본 발명은 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제 및 게이트 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 위에 반도체를 형성하는 단계, 상기 반도체 위에 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 소스 전극 및 드레인 전극 위에 색 필터를 형성하는 단계, 상기 색 필터 위에 절연막을 형성하는 단계, 그리고 상기 절연막 위에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 절연막을 형성하는 단계 및 상기 화소 전극을 형성하는 단계 중 적어도 하나는 감광막을 도포하는 단계, 상기 감광막을 노광하여 복수의 감광 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광 패턴을 사용하여 식각하는 단계, 그리고 상기 감광 패턴을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 감광 패턴을 박리하는 단계는 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제를 사용하는 표시판의 제조 방법에 대한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)