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1. (WO2010002071) ÉTAGE DE LÉVITATION MAGNÉTIQUE CYLINDRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/002071    N° de la demande internationale :    PCT/KR2008/005733
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 29.09.2008
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.04.2010    
CIB :
H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : KOREA ELECTRO TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE [KR/KR]; 28-1 Seongju-dong Changwon-si Gyeongsangnam-do 641-120 (KR) (Tous Sauf US).
JEON, Jeong Woo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
OH, Hyun Seok [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHUNG, Sung Il [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Dong Yeon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JEONG, Yeon Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KANG, Do Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
NIKIFOROV, S.A. [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CARAIANI, Mitica [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : JEON, Jeong Woo; (KR).
OH, Hyun Seok; (KR).
CHUNG, Sung Il; (KR).
LEE, Dong Yeon; (KR).
JEONG, Yeon Ho; (KR).
KANG, Do Hyun; (KR).
NIKIFOROV, S.A.; (KR).
CARAIANI, Mitica; (KR)
Mandataire : HALLA PATENT & LAW FIRM; 14th Fl., KTB Network Building 826-14 Yeoksam-dong, Kangnam-ku Seoul 135-769 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0065102 04.07.2008 KR
Titre (EN) CYLINDRICAL MAGNETIC LEVITATION STAGE
(FR) ÉTAGE DE LÉVITATION MAGNÉTIQUE CYLINDRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a cylindrical magnetic levitation stage which includes a cylindrical substrate used to form micro-patterns of various arbitrary shapes on a large-area semiconductor substrate or display panel substrate, a cylindrical substrate, a combination of a first permanent magnet array and a first coil array and a combination of a first permanent magnet array and a first coil array, which are coupled to the cylindrical substrate, so that levitation, axial translation and rotation of the cylindrical substrate can be made finely through the control of a magnetic force generated by the interaction between a magnetic field generated by electric current applied to the coil arrays and a magnetic field generated from the permanent magnet arrays corresponding to the coil arrays.
(FR)La présente invention concerne un étage de lévitation magnétique cylindrique qui comprend un substrat cylindrique utilisé pour former des micro-motifs de formes arbitraires diverses sur un substrat semi-conducteur d'aire importante ou un substrat de panneau d'affichage, un substrat cylindrique, une combinaison d'une première matrice d'aimants permanents et d'une première matrice de bobines et une combinaison d'une première matrice d'aimants permanents et d'une première matrice de bobines, qui sont couplées au substrat cylindrique de sorte que la lévitation, la translation axiale et la rotation du substrat cylindrique peuvent être réalisées finement en contrôlant la force magnétique générée par l'interaction entre un champ magnétique généré par le courant électrique appliqué aux matrices de bobines et un champ magnétique généré par les matrices d'aimants permanents correspondant aux matrices de bobines.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)