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1. (WO2010001724) DISPOSITIF DE SOURCE D’ALIMENTATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/001724    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/060989
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 17.06.2009
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), H02M 3/155 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (Tous Sauf US).
HORISHITA Yoshikuni [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUBARA Shinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ONO Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HORISHITA Yoshikuni; (JP).
MATSUBARA Shinobu; (JP).
ONO Atsushi; (JP)
Mandataire : SEIGA Patent and Trademark Corporation; 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-170807 30.06.2008 JP
Titre (EN) POWER SOURCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE D’ALIMENTATION
(JA) 電源装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a power source device which can suppress the occurrence of an abnormal discharge caused by a charge-up of a substrate so that an excellent thin film can be formed on a substrate of a large area.  The power source device (E) comprises a first discharge circuit (E1) for applying a predetermined potential in a predetermined frequency to a pair of targets (T1 and T2) contacting with a plasma, by inverting the polarities alternately, and a second discharge circuit (E2) for applying a predetermined potential between an electrode, to which the potential is not applied from the first discharge circuit, of the paired targets and the ground.  The second discharge circuit is provided with an inverse-potential applying means (3) for applying a potential inverted from an output potential, to at least one of the electrodes at a polarity inverting time.
(FR)L’invention concerne un dispositif de source d’alimentation qui peut supprimer l’occurrence d’une décharge anormale provoquée par une charge d’un substrat de sorte qu'un film fin excellent peut être formé sur un substrat d'une grande superficie. Le dispositif de source d'alimentation (E) comprend un premier circuit de décharge (E1) destiné à appliquer un potentiel prédéterminé à une fréquence prédéterminée à une paire de cibles (T1 et T2) venant en contact avec un plasma, en inversant les polarités de façon alternée, et un second circuit de décharge (E2) destiné à appliquer un potentiel prédéterminé entre une électrode, à laquelle le potentiel n’est pas appliqué depuis un premier circuit de décharge, des cibles appariées et la masse. Le second circuit de décharge est pourvu d’un moyen d'application de potentiel inverse (3) pour appliquer un potentiel inversé par rapport à un potentiel de sortie, à au moins l'une des électrodes à un moment d'inversion de polarité.
(JA) 基板のチャージアップに起因した異常放電の発生を抑制でき、大面積の基板に対しても良好な薄膜形成が可能な電源装置を提供する。  本発明の電源装置Eは、プラズマに接触する一対のターゲットT1、T2に対して所定の周波数で交互に極性を反転させて所定の電位を印加する第1の放電回路E1と、前記一対のターゲットのうち第1の放電回路から電位が印加されていない電極とグランドとの間で所定の電位を印加する第2の放電回路E2とを備える。そして、第2の放電回路には、極性反転時に前記電極の少なくとも一方に出力電位と逆の電位を印加する逆電位印加手段3が設けられている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)