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1. (WO2010001723) DISPOSITIF DE SOURCE D’ALIMENTATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/001723    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/060988
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 17.06.2009
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), H02M 7/5387 (2007.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUBARA Shinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HORISHITA Yoshikuni [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YODA Hidenori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YANAGIYA Yoshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TODA Takeo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUBARA Shinobu; (JP).
HORISHITA Yoshikuni; (JP).
YODA Hidenori; (JP).
YANAGIYA Yoshio; (JP).
TODA Takeo; (JP)
Mandataire : SEIGA Patent and Trademark Corporation; 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-170806 30.06.2008 JP
Titre (EN) POWER SOURCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE D’ALIMENTATION
(JA) 電源装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a power source device which can easily homogenize the thickness distribution of a thin film to be formed on a substrate surface, even when a pulse potential is applied in a low frequency to paired targets.  The power source device (E) comprises a first discharge circuit (E1) for applying a predetermined pulse potential alternately in a predetermined frequency to a pair of targets (T1 and T2) contacting a plasma, and a second discharge circuit (E2) for applying a predetermined pulse potential between the ground and the target which is not outputted from the first discharge circuit among the pair of targets.
(FR)L’invention concerne un dispositif de source d’alimentation qui peut facilement homogénéiser la distribution d’épaisseur d’un film fin à former sur une surface de substrat, même lorsqu'un potentiel d'impulsion est appliqué à une faible fréquence à des cibles appariés. Le dispositif de source d'alimentation (E) comprend un premier circuit de décharge (E1) destiné à appliquer un potentiel d'impulsion prédéterminé de façon alternée à une fréquence prédéterminée à une paire de cibles (T1 et T2) contactant un plasma, et un second circuit de décharge (E2) pour appliquer un potentiel d’impulsion prédéterminé entre la masse et la cible qui n’est pas fourni depuis le premier circuit de décharge parmi la paire de cibles.
(JA) 対をなすターゲットに低い周波数でパルス電位を印加するときでも、基板表面に形成すべき薄膜の膜厚分布の均一化を図り易い電源装置を提供する。  本発明の電源装置Eは、プラズマに接触する一対のターゲットT1、T2に対して所定の周波数で交互に所定のパルス電位を印加する第1の放電回路E1と、前記一対のターゲットのうち第1の放電回路から出力されていないターゲットとグランドとの間で所定のパルス電位を印加する第2の放電回路E2とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)