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1. (WO2010001538) STRUCTURE FINE ET MATRICE PERMETTANT D’IMPRIMER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/001538    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/002773
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 18.06.2009
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B29C 33/40 (2006.01), B81C 99/00 (2010.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP) (Tous Sauf US).
OGINO, Masahiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ANDO, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Miho [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAUCHI, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OGINO, Masahiko; (JP).
ANDO, Takashi; (JP).
SASAKI, Miho; (JP).
MIYAUCHI, Akihiro; (JP)
Mandataire : Polaire I.P.C.; 7-1,Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-169768 30.06.2008 JP
2008-169772 30.06.2008 JP
Titre (EN) FINE STRUCTURE AND STAMPER FOR IMPRINTING
(FR) STRUCTURE FINE ET MATRICE PERMETTANT D’IMPRIMER
(JA) 微細構造体およびインプリント用スタンパ
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a fine structure which can form a metallic replica mold with high resolution.  The structure is less apt to break even when foreign particles or protrusions are present.  Even when applied to a wavy object to which a pattern is to be transferred, the structure diminishes regions having a transfer failure.  A durable stamper for imprinting is also provided which conforms to local protrusions of a substrate to which a pattern is to be transferred.  With this stamper, regions having a pattern transfer failure can hence be diminished. The fine structure comprises a supporting member and a pattern layer having a fine rugged pattern formed in the surface thereof.  The pattern layer is constituted of a resin obtained by curing a resin composition comprising two or more organic ingredients differing in functional group and a cationically polymerizable catalyst.  The supporting member and the pattern layer transmit light having a wavelength of 365 nm or longer.  The stamper for imprinting comprises a base layer, a pattern layer having a fine rugged pattern formed in the surface thereof, and a buffer layer disposed between the base layer and the pattern layer and having a lower Young's modulus than the base layer and the pattern layer.  The stamper for imprinting may be one in which the pattern layer is replaceable.
(FR)La présente invention a trait à une structure fine qui permet de former un moule de réplique métallique avec une haute résolution. La structure est moins susceptible de se casser y compris lorsque des corps étrangers ou des protubérances sont présents. Même lorsqu’elle est appliquée à un objet ondulé sur lequel un motif doit être transféré, la structure réduit les régions dont le transfert a échoué. La présente invention a également trait à une matrice durable permettant d’imprimer qui s’adapte aux protubérances locales d’un substrat sur lequel un motif doit être transféré. A l’aide de cette matrice, les régions dont le transfert de motif a échoué peuvent ainsi être réduites. La structure fine comprend un élément de support et une couche de motif sur la surface de laquelle est formé un motif irrégulier fin. La couche de motif est constituée d’une résine obtenue en durcissant une composition de résine comprenant deux ingrédients organiques ou plus différents en termes de groupe fonctionnel et un catalyseur polymérisable de façon cationique. L’élément de support et la couche de motif transmettent la lumière ayant une longueur d’onde de 365 nm ou plus. La matrice permettant d’imprimer comprend une couche de base, une couche de motif sur la surface de laquelle un motif irrégulier fin est formé, et une couche tampon disposée entre la couche de base et la couche de motif et dotée d’un module d’élasticité de Young inférieur à celui de la couche de base et de la couche de motif. La matrice permettant d’imprimer peut être une matrice dans laquelle la couche de motif peut être remplacée.
(JA) 高精度の金属製レプリカモールドが形成可能で、且つ、異物や突起が存在しても破損しにくく、うねりのある被転写体に対しても転写不良領域が少ない微細構造体を提供するとともに、被転写基板の局所的な突起に追従し、パターン転写不良領域を低減することが可能で、耐久性のあるインプリント用スタンパを提供する。 支持部材と、表面に微細な凹凸パターンが形成されたパターン層とを含み、前記パターン層は、官能基の異なる2種以上の有機成分とカチオン重合性触媒とを含む樹脂組成物を硬化させた樹脂で形成され、前記支持部材およびパターン層は、波長が365nm以上の光を透過する微細構造体を用いる。また、基材層と表面に微細な凹凸形状が形成されたパターン層の間に、基材層及びパターン層よりも小さいヤング率を有する緩衝層を設けたインプリント用スタンパを用いる。また、パターン層を交換可能としたインプリント用スタンパを用いる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)