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1. (WO2010001015) COLLECTEUR DE RAYONNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/001015    N° de la demande internationale :    PCT/FR2009/051058
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 04.06.2009
CIB :
G02B 17/06 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), G02B 19/00 (2006.01)
Déposants : SAGEM DEFENSE SECURITE [FR/FR]; Le Ponant de Paris 27, rue Leblanc F-75015 Paris (FR) (Tous Sauf US).
MERCIER-YTHIER, Renaud [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
GEYL, Roland [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : MERCIER-YTHIER, Renaud; (FR).
GEYL, Roland; (FR)
Mandataire : BOIRE, Philippe; (FR)
Données relatives à la priorité :
0853731 05.06.2008 FR
Titre (EN) RADIATION COLLECTOR
(FR) COLLECTEUR DE RAYONNEMENT
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a radiation collector (10) designed to concentrate part of the radiation produced by a source on a spot (100). The collector includes a primary concave mirror (1) and a secondary convex mirror (2), each being rotationally symmetrical about an optical axis (X-X) of the collector. The primary mirror is configured to reflect the radiation collected with an angle of incidence (i) that is substantially constant between different points on said main mirror. Such a collector is particularly suitable for use with a discharge produced plasma source.
(FR)Un collecteur de rayonnement (10) est adapté pour concentrer dans une tache (100) une partie d'un rayonnement produit par une source. Le collecteur comprend un miroir primaire concave (1) et un miroir secondaire convexe (2), chacun à symétrie de révolution autour d'un axe optique (X-X) du collecteur. Le miroir primaire est adapté pour réfléchir le rayonnement collecté avec un angle d'incidence (i) qui est sensiblement constant entre des points différents dudit miroir primaire. Un tel collecteur est particulièrement adapté pour être utilisé avec une source du type plasma produit par décharge.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)