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1. (WO2010000725) ADHÉSION À DES SURFACES MÉTALLIQUES AVEC DES COPOLYMÈRES BLOCS OBTENUS AU MOYEN D'UN RAFT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/000725    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/058159
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 30.06.2009
CIB :
C09D 153/00 (2006.01), C08F 2/22 (2006.01), C08F 2/38 (2006.01), C08F 293/00 (2006.01), C08L 53/00 (2006.01)
Déposants : DSM IP Assets B.V. [NL/NL]; Het Overloon 1 NL-6411 TE Heerlen (NL) (Tous Sauf US).
SCHELLEKENS, Michael Arnoldus Jacobus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
NABUURS, Tijs [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
GEURTS, John [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
OVERBEEK, Gerardus Cornelis [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : SCHELLEKENS, Michael Arnoldus Jacobus; (NL).
NABUURS, Tijs; (NL).
GEURTS, John; (NL).
OVERBEEK, Gerardus Cornelis; (NL)
Mandataire : KIRK, Martin; (NL)
Données relatives à la priorité :
08159342.8 30.06.2008 EP
Titre (EN) ADHESION TO METAL SURFACES WITH BLOCK COPOLYMERS OBTAINED USING RAFT
(FR) ADHÉSION À DES SURFACES MÉTALLIQUES AVEC DES COPOLYMÈRES BLOCS OBTENUS AU MOYEN D'UN RAFT
Abrégé : front page image
(EN)An aqueous, metal, coating composition (and process for obtaining it) comprising a block copolymer and a polymer P; wherein the block copolymer comprises at least blocks [A]x[B]y, where at least block [A] is obtained by a controlled radical polymerisation of at least one ethylenically unsaturated monomer via a reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) mechanism in solution in the presence of a control agent and a source of free radicals; and where (a) block [A] comprises (i) 0 to 80 mol% of metal adhering ethylenically unsaturated monomers; (ii) 0 to 100 mol % of water dispersible ethylenically unsaturated monomers; (iii) 0 to 70 mol % of C1 to C30 hydrocarbo (meth)acrylate and/or styrenic monomers; (iv) 0 to 35 mol % of ethylenically unsaturated monomer different from i), ii) + iii); where the amount of at least one of i), ii), iii) + iv) is > 0 mol%; block [A] has a Hansch parameter < 1.5; and an average degree of polymerisation x, (x = 3 to 80); (b) block [B] comprises: i) 0 to 50 mol% of metal adhering ethylenically unsaturated monomers; ii) 0 to 15 mol % of water dispersible ethylenically unsaturated monomers; iii) 20 to 100 mol % of C1 to C30 hydrocarbo (meth)acrylate and/or styrenic monomers; iv) 0 to 35 mol % of ethylenically unsaturated monomers units different from those from i), ii) + iii); where block [B] has a Hansch parameter ≥ 1.5; and block [B] an average degree of polymerisation y (y ≥ 10 and > x); and (c) polymer P is obtained by an emulsion polymerisation process in the presence of the block copolymer [A][B] and comprises: i) 0 to 5 wt % of metal adhering ethylenically unsaturated monomers; ii) 0 to 15 wt% of water dispersible ethylenically unsaturated monomers; iii) 50 to 100 wt % C1 to C30 hydrocarbo (meth)acrylate and/or styrenic monomers; and iv) 0 to 35 % by weight of ethylenically unsaturated monomers units different from those from i), ii) + iii).
(FR)L'invention concerne une composition de revêtement métallique aqueuse (et un procédé pour l'obtenir) comprenant un copolymère à blocs et un polymère P. Le copolymère à blocs comprend au moins les blocs [A]x[B]y, au moins le bloc [A] étant obtenu par une polymérisation radicalaire contrôlée d'au moins un monomère à insaturation éthylénique par un mécanisme d'addition-fragmentation et transfert de chaîne réversible (RAFT) en solution en présence d'un agent de contrôle et d'une source de radicaux libres. (a) Le bloc [A] comprend (i) 0 à 80 % mol de monomères à insaturation éthylénique adhérant aux métaux, (ii) 0 à 100 % mol de monomères à insaturation éthylénique dispersibles dans l'eau, (iii) 0 à 70 % mol de monomères hydrocarbo(méth)acrylate en C1 à C30 et/ou styréniques, (iv) 0 à 35 % mol de monomère à insaturation éthylénique différent de i), ii) et iii). La quantité d'au moins un parmi i), ii), iii) et iv) est > 0 % mol. Le paramètre de Hansch du bloc [A] est < 1,5. Le degré moyen de polymérisation x est tel que x = 3 à 80. (b) Le bloc [B] comprend : i) 0 à 50 % mol de monomères à insaturation éthylénique adhérant aux métaux, ii) 0 à 15 % mol de monomères à insaturation éthylénique dispersibles dans l'eau, iii) 20 à 100 % mol de monomères hydrocarbo(méth)acrylate en C1 à C30 et/ou styréniques, iv) 0 à 35 % mol de motifs monomères à insaturation éthylénique différents de ceux de i), ii) et iii). Le paramètre de Hansch du bloc [B] est ≥ 1,5 et le bloc [B] a un degré moyen de polymérisation y tel que y ≥ 10 et > x. (c) Le polymère P est obtenu par un procédé de polymérisation en émulsion en présence du copolymère à blocs [A][B] et comprend : i) 0 à 5 % pds de monomères à insaturation éthylénique adhérant aux métaux, ii) 0 à 15 % pds de monomères à insaturation éthylénique dispersibles dans l'eau, iii) 50 à 100 % pds de monomères hydrocarbo(méth)acrylate en C1 à C30 et/ou styréniques, et (iv) 0 à 35 % en poids de motifs monomériques à insaturation éthylénique différents de ceux de i), ii) et iii).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)