WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009143351) SÉPARATION DE NANOPARTICULES UTILISANT UNE DIFFUSION RAMAN ANTI-STOKES COHÉRENTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/143351    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/044848
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 21.05.2009
CIB :
B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : PRESIDENT & FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; 17 Quincy Street Cambridge, MA (US) (Tous Sauf US).
MAZUR, Eric [NL/US]; (US) (US Seulement).
DIEBOLD, Eric [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MAZUR, Eric; (US).
DIEBOLD, Eric; (US)
Mandataire : MOLLAAGHABABA, Reza; (US)
Données relatives à la priorité :
61/128,320 21.05.2008 US
Titre (EN) NANOPARTICLE SEPARATION USING COHERENT ANTI-STOKES RAMAN SCATTERING
(FR) SÉPARATION DE NANOPARTICULES UTILISANT UNE DIFFUSION RAMAN ANTI-STOKES COHÉRENTE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides methods and systems for separating particles that exhibit different Raman characteristics. The method can include introducing nanoparticles, on which Raman- active molecules are adsorbed, into a photopolymerizable resin and exposing to excite Raman active vibrational modes of the molecules to generate Raman-shifted radiation suitable for polymerizing the resin such that the Raman-shifted radiation causes selective polymerization of a resin surrounding nanoparticles if the nanoparticles provide a Raman enhancement factor greater than a threshold. In addition, methods for electrically isolating nanoparticles, or selectively removing one type of nanoparticles from collections, are disclosed. These methods rely on generation of blue-shifted anti-Stokes photons to selectively expose portions of a photoresist covering the nanoparticles to those photons. Such exposure can cause a change in the exposed portions (e.g., polymerize or increase solubility to a developing agent), which can be employed to achieve isolation of the nanoparticles or their selective removal.
(FR)L’invention concerne, sous un aspect, des procédés et des systèmes pour séparer des particules qui présentent des caractéristiques Raman différentes. Par exemple, un tel procédé peut comprendre l’introduction d’une pluralité de nanoparticules, sur chacune desquelles une ou plusieurs molécules actives Raman sont adsorbées, dans une résine pouvant être photopolymérisée et l’exposition des nanoparticules à un rayonnement de façon à exciter au moins un mode de vibration actif Raman des molécules afin de générer un rayonnement décalé Raman ayant une longueur d'onde appropriée pour polymériser la résine de telle sorte que le rayonnement décalé Raman entraîne une polymérisation sélective d’au moins une partie de la résine entourant une nanoparticule si la nanoparticule fournit un facteur d’amplification Raman supérieure à un seuil. Sous d’autres aspects, des procédés pour isoler électriquement une ou plusieurs nanoparticules ou pour enlever sélectivement un type de nanoparticules d’un ensemble de nanoparticules de types différents, disposées sur un substrat, sont divulgués. Ces procédés reposent de façon générale sur la génération de photons anti-stokes décalés vers le bleu pour exposer sélectivement des parties d’une couche de résine photosensible couvrant les nanoparticules de ces photons. A titre d'exemple, une telle exposition peut entraîner un changement des parties exposées (par exemple polymériser ces parties ou augmenter leur solubilité dans un agent révélateur), ce qui peut être employé pour obtenir un isolement des nanoparticules ou leur élimination sélective.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)