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1. (WO2009143226) COUCHES ÉPITAXIALES À BASE D'OXYDE DE ZINC ET DISPOSITIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/143226    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/044646
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 20.05.2009
CIB :
H01L 21/365 (2006.01), H01L 33/00 (2010.01)
Déposants : LUMENZ, INC.; 8 St. Mary's St., Suite 627 Boston, MA 02215 (US) (Tous Sauf US).
ADEKORE, Bunmi, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
PIERCE, Jonathan [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ADEKORE, Bunmi, T.; (US).
PIERCE, Jonathan; (US)
Mandataire : SUNSTEIN, Bruce, D.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/060,754 11.06.2008 US
61/054,842 21.05.2008 US
Titre (EN) ZINC-OXIDE BASED EPITAXIAL LAYERS AND DEVICES
(FR) COUCHES ÉPITAXIALES À BASE D'OXYDE DE ZINC ET DISPOSITIFS
Abrégé : front page image
(EN)Methods of forming planar zinc-oxide based epitaxial layers, associated heterostructures, and devices are provided.
(FR)L'invention porte sur des procédés de formation de couches épitaxiales à base d'oxyde de zinc planes, sur des hétérostructures associées et sur des dispositifs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)