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1. (WO2009142692) BOUE AU SILICIUM STABLE À FORTE CHARGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/142692    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/002846
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 07.05.2009
CIB :
C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; Legal Department 870 North Commons Drive Aurora, IL 60504 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : WHITE, Michael; (US).
GILLILAND, Jeffrey; (US).
JONES, Lamon; (US).
WALTERS, Alicia; (US)
Mandataire : WESEMAN, Steven; (US)
Données relatives à la priorité :
12/126,739 23.05.2008 US
Titre (EN) STABLE, HIGH RATE SILICON SLURRY
(FR) BOUE AU SILICIUM STABLE À FORTE CHARGE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a chemical mechanical polishing composition comprising wet process silica, a stabilizer compound, a potassium salt, a secondary amine compound, and water. The invention further provides a method of polishing a substrate with the polishing composition.
(FR)Cette invention concerne une composition de polissage chimique mécanique comprenant de la silice pour application par voie humide, un composé de stabilisation, un sel de potassium, un composé d’amine secondaire, et de l’eau. L’invention concerne également un procédé de polissage d’un substrat au moyen de la composition de polissage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)