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1. (WO2009142089) SUBSTRAT POUR PANNEAU D'AFFICHAGE, PANNEAU D'AFFICHAGE COMPORTANT LE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU SUBSTRAT POUR LE PANNEAU D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU PANNEAU D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/142089    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/057955
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 22.04.2009
CIB :
G02F 1/1343 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
SUNOHARA, Hideaki; (US Seulement)
Inventeurs : SUNOHARA, Hideaki;
Mandataire : UENO, Noboru; KS Iseya Building 8th Floor, 21-23, Sakae 3-chome Naka-ku, Nagoya-shi Aichi 4600008 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-131445 20.05.2008 JP
Titre (EN) SUBSTRATE FOR DISPLAY PANEL, DISPLAY PANEL PROVIDED WITH THE SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR DISPLAY PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL
(FR) SUBSTRAT POUR PANNEAU D'AFFICHAGE, PANNEAU D'AFFICHAGE COMPORTANT LE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU SUBSTRAT POUR LE PANNEAU D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU PANNEAU D'AFFICHAGE
(JA) 表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a substrate for a display panel, wherein an auxiliary capacitance is increased without increasing the the size of the outer shape of an auxiliary capacitance section. The substrate has a first sub-conductor film (141); a second sub-conductor film (142) superimposed on the first sub-conductor film (141); and a second insulating film (18) and a third insulating film (19), which are superimposed on the first sub-conductor film (141) and the second sub-conductor film (142). An opening section (contact hole) is formed on the second sub-conductor film (142), the second insulating film (18) and the third insulating film (19), the first sub-conductor film (141) is exposed from the second sub-conductor film (142), the second insulating film (18) and the third insulating film (19), and an opening section edge of the second sub-conductor film (142) is covered with a protruding section (191) formed on the third insulating film (19).
(FR)L'invention porte sur un substrat pour un panneau d'affichage, dans lequel une capacité auxiliaire est augmentée sans augmenter la dimension de la forme externe d'une section de capacité auxiliaire. Le substrat a un premier film sous-conducteur (141) ; un second film sous-conducteur (142) superposé sur le premier film sous-conducteur (141) ; et un second film isolant (18) et un troisième film isolant (19), qui sont superposés sur le premier film sous-conducteur (141) et le second film sous-conducteur (142). Une section d'ouverture (trou de contact) est formée sur le second film sous-conducteur (142), le second film isolant (18) et le troisième film isolant (19), le premier film sous-conducteur (141) est exposé à partir du second film sous-conducteur (142), du second film isolant (18) et du troisième film isolant (19), et un bord de section d'ouverture du second film sous-conducteur (142) est recouvert d'une section faisant saillie (191) formée sur le troisième film isolant (19).
(JA) 補助容量部の外形の寸法を大きくすることなく補助容量を大きくすることができる表示パネル用の基板を提供すること。  第一のサブ導体膜141と、第一のサブ導体膜141に重畳する第二のサブ導体膜142と、これらの第一のサブ導体膜141および第二のサブ導体膜142に重畳する第二の絶縁膜18と第三の絶縁膜19とを有し、第二のサブ導体膜142、第二の絶縁膜18および第三の絶縁膜19には開口部(コンタクトホール)が形成され、第一のサブ導体膜141が第二のサブ導体膜142、第二の絶縁膜18および第三の絶縁膜19から露出するとともに、第二のサブ導体膜142の開口部端縁は第三の絶縁膜19に形成される突出部191により覆われている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)