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1. (WO2009141720) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LA COMPENSATION DE SUPERPOSITION ENTRE DES COUCHES SUCCESSIVES DE FORMATION DE MOTIFS SUR UNE PIÈCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/141720    N° de la demande internationale :    PCT/IB2009/005685
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 22.05.2009
CIB :
G01B 11/30 (2006.01), B41J 2/435 (2006.01), G01B 11/25 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE/SE]; Nytorpsvagen 9 Box 3141 S-18303 Taby (SE) (Tous Sauf US).
FREDRIK, Sjostrom [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
WAHLSTEN, Mikael [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : FREDRIK, Sjostrom; (SE).
WAHLSTEN, Mikael; (SE)
Données relatives à la priorité :
61/071,871 22.05.2008 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR OVERLAY COMPENSATION BETWEEN SUBSEQUENTLY PATTERNED LAYERS ON WORKPIECE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LA COMPENSATION DE SUPERPOSITION ENTRE DES COUCHES SUCCESSIVES DE FORMATION DE MOTIFS SUR UNE PIÈCE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatuses for patterning workpieces are provided. The methods and apparatuses described herein improve overlay between subsequently patterned layers on a workpiece by introducing an improved alignment method that compensates for workpiece distortions.
(FR)La présente invention concerne des procédés et des appareils permettant la formation de motifs sur des pièces. Les procédés et appareils selon l'invention améliorent la superposition entre des couches de formation de motifs successives sur une pièce par l'introduction d'un procédé d'alignement qui compense les distorsions de la pièce.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)