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1. (WO2009141319) SYSTÈME DE SÉRIGRAPHIE DE LA PROCHAINE GÉNÉRATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/141319    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/056024
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 18.05.2009
CIB :
H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
BACCINI, Andrea [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
GALIAZZO, Marco [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
ANDREOLA, Daniele [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
DE SANTI, Luigi [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
ZORZI, Christian [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
VERCESI, Tommaso [IT/IT]; (IT) (US Seulement)
Inventeurs : BACCINI, Andrea; (IT).
GALIAZZO, Marco; (IT).
ANDREOLA, Daniele; (IT).
DE SANTI, Luigi; (IT).
ZORZI, Christian; (IT).
VERCESI, Tommaso; (IT)
Mandataire : PETRAZ, Gilberto; (IT)
Données relatives à la priorité :
UD2008A000112 21.05.2008 IT
UD2008A000262 18.12.2008 IT
Titre (EN) NEXT GENERATION SCREEN PRINTING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE SÉRIGRAPHIE DE LA PROCHAINE GÉNÉRATION
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the present invention provide an apparatus and method for processing substrates using a multiple screen printing chamber processing system that has an increased system throughput, improved system uptime, and improved device yield performance, while maintaining a repeatable and accurate screen printing process on the processed substrates. In one embodiment, the multiple screen printing chamber processing system is adapted to perform a screen printing process within a portion of a crystalline silicon solar cell production line in which a substrate is patterned with a desired material, and then processed in one or more subsequent processing chambers.
(FR)La présente invention, selon des modes de réalisation, porte sur un appareil et un procédé pour le traitement de substrats à l'aide d'un système de traitement à multiples chambres de sérigraphie, qui a un débit du système accru, un temps de fonctionnement du système amélioré et une performance de rendement de production de dispositifs améliorée, tout en conservant un procédé de sérigraphie répétable et précis sur les substrats traités. Dans un mode de réalisation, le système de traitement à multiples chambres de sérigraphie est conçu pour effectuer un procédé de sérigraphie à l'intérieur d'une partie d'une ligne de production de cellule solaire en silicium cristallin dans laquelle on forme un motif d'une matière souhaitée sur un substrat, puis il est traité dans une ou plusieurs chambres de traitement subséquentes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)