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1. (WO2009141033) SYSTÈME OPTIQUE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/141033    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/002544
Date de publication : 26.11.2009 Date de dépôt international : 07.04.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudof-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
KRAEMER, Daniel [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MANGER, Matthias [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GELLRICH, Bernhard [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : KRAEMER, Daniel; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE).
MANGER, Matthias; (DE).
GELLRICH, Bernhard; (DE)
Mandataire : CARL ZEISS AG; Patentabteilung Carl-Zeiss-Str. 22 73447 Oberkochen (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 001 892.9 21.05.2008 DE
61/054,870 21.05.2008 US
Titre (DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
(EN) OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(DE)Ein optisches System (10), insbesondere Projektionsobjektiv (12), für die Mikrolithographie weist eine optische Achse und zumindest eine optische Korrekturanordnung (44) auf, die ein erstes optisches Korrekturelement und zumindest ein zweites optisches Korrekturelement aufweist, wobei das erste Korrekturelement mit einer ersten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, und wobei das zweite Korrekturelement mit einer zweiten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, wobei sich die erste Oberflächenkontur und die zweite Oberflächenkontur zumindest näherungsweise zu null addieren, wobei die Korrekturanordnung (44) zumindest einen Antrieb zum Bewegen zumindest eines der beiden Korrekturelemente aufweist. Dabei ist zumindest eines der beiden Korrekturelemente um eine Drehachse drehbar, die zumindest näherungsweise parallel zur optischen Achse ist, und der zumindest eine Antrieb ist ein Drehantrieb zum Drehen des einen oder beider Korrekturelemente um die Drehachse.
(EN)The invention relates to an optical system (10), particularly a projection objective (12), for microlithography, comprising an optical axis and at least one optical correcting arrangement (44) comprising a first optical correcting element and at least one second optical correcting element, wherein the first correcting element has a first aspherical surface contour, and wherein the second correcting element has a second aspherical surface contour, wherein the first surface contour and the second surface contour add at least approximately to zero, wherein the correcting arrangement (44) comprises at least one drive for moving at least one of the two correcting elements. At least one of the two correcting elements can thereby be rotated about an axis of rotation nearly parallel to the optical axis, and the at least one drive is a rotary drive for rotating the one or both correcting elements about the axis of rotation.
(FR)L'invention concerne un système optique (10), notamment un objectif de projection (12), pour la microlithographie, présentant un axe optique et au moins un dispositif de correction optique (44) pourvu d'un premier élément de correction optique et d'au moins un deuxième élément de correction optique. Le premier élément de correction optique est pourvu d'un premier contour de surface asphérique, et le deuxième élément de correction optique est pourvu d'un deuxième contour de surface asphérique, le premier et le deuxième contour de surface étant au moins approximativement complémentaires. Le dispositif de correction (44) comporte au moins un entraînement pour déplacer au moins un élément de correction. Au moins un élément de correction peut tourner autour d'un axe de rotation au moins approximativement parallèle à l'axe optique, et le ou les entraînements sont des entraînements rotatifs destinés à faire tourner le ou les éléments de correction autour de l'axe de rotation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)