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1. (WO2009140622) TAMPON DE POLISSAGE MUNI D'UNE FENÊTRE DE POINT FINAL ET SYSTÈMES ET PROCÉDÉS FAISANT APPEL AUDIT TAMPON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/140622    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/044187
Date de publication : 19.11.2009 Date de dépôt international : 15.05.2009
CIB :
B24B 37/04 (2006.01), B24D 13/14 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), B24B 49/12 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3m Center Post Office Box 33427 Saint Paul, MN 55133-3427 (US) (Tous Sauf US).
SEMIQUEST, INC. [US/US]; 2363 Bering Drive San Jose, CA 95131 (US) (Tous Sauf US).
BAJAJ, Rajeev [US/US]; (US) (US Seulement).
FISHER, Stephen, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
JOSEPH, William, D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BAJAJ, Rajeev; (US).
FISHER, Stephen, M.; (US).
JOSEPH, William, D.; (US)
Mandataire : KWAK, Jessica, H.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/053,429 15.05.2008 US
Titre (EN) POLISHING PAD WITH ENDPOINT WINDOW AND SYSTEMS AND METHOD USING THE SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE MUNI D'UNE FENÊTRE DE POINT FINAL ET SYSTÈMES ET PROCÉDÉS FAISANT APPEL AUDIT TAMPON
Abrégé : front page image
(EN)A polishing pad including a path therethrough to transmit a signal for in situ monitoring of an endpoint in a polishing operation. In one embodiment, the polishing pad includes a polishing composition distribution layer on a first side of a guide plate and a support layer on an opposed second side of a guide plate. The guide plate retains a plurality of polishing elements that extend along a first direction substantially normal to a plane including the polishing pad and through the polishing composition distribution layer. The polishing pad includes an optical path along the first direction and through a thickness of the pad.
(FR)L'invention porte sur un tampon de polissage traversé par un chemin qui permet la transmission d'un signal destiné à la surveillance in situ d'un point final au cours d'une opération de polissage. Dans un mode de réalisation, le tampon de polissage comprend une couche de distribution de composition de polissage formée sur un premier côté d'une plaque-guide, et une couche de support formée d'un second côté opposé de la plaque-guide. La plaque-guide retient une pluralité d'éléments de polissage qui s'étendent dans une première direction sensiblement perpendiculaire à un plan comprenant le tampon de polissage, et à travers la couche de distribution de composition de polissage. Le tampon de polissage comprend un chemin optique qui s'étend dans la première direction, à travers l'épaisseur du tampon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)