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1. (WO2009140250) DÉVELOPPEMENT DE LOGICIELS GUIDÉ PAR MODÈLE À BASE DE CADRICIEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/140250    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/043575
Date de publication : 19.11.2009 Date de dépôt international : 12.05.2009
CIB :
G06F 9/44 (2006.01)
Déposants : RAYTHEON COMPANY [US/US]; 870 Winter Street Waltham, MA 02451-1449 (US) (Tous Sauf US).
KEPPLER, Peter, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KEPPLER, Peter, A.; (US)
Mandataire : WILLIAMS, Bradley, P.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/052,526 12.05.2008 US
12/463,691 11.05.2009 US
Titre (EN) FRAMEWORK-BASED MODEL-DRIVEN SOFTWARE DEVELOPMENT
(FR) DÉVELOPPEMENT DE LOGICIELS GUIDÉ PAR MODÈLE À BASE DE CADRICIEL
Abrégé : front page image
(EN)In accordance with certain embodiments of the present invention, a method includes generating a platform independent software framework using a graphical modeling language. The platform independent software framework includes one or more platform independent components each describing a platform independent behavior common to each of a plurality of computing platforms and one or more platform specific components each corresponding to a platform specific plug-ins of a platform specific model. The platform specific model corresponds to one of the plurality of computing platforms. The method further includes generating, using the graphical modeling language, a particular platform specific model corresponding to a particular computing platform of the one or more computing platforms. The particular platform model includes one or more platform specific plug-ins each corresponding to a platform specific component of the platform independent framework and describing a platform specific behavior for the particular computing platform.
(FR)La présente invention concerne par certains modes de réalisation un procédé consistant à générer un cadriciel indépendant de la plateforme au moyen d'un langage de modélisation graphique. Le réseau logiciel indépendant de la plateforme comporte, d'une part un ou plusieurs composants indépendants de la plateforme décrivant chacun un comportement indépendant de la plateforme commun à chacune des plateformes de calcul d'une pluralité de plateformes de calcul, et d'autre part un ou plusieurs composants spécifiques de plateforme correspondant chacun à un module d'extension spécifique d'un modèle spécifique de plateforme. Le modèle spécifique de plateforme correspond à une plateforme de calcul de la pluralité de plateformes de calcul. Le procédé consiste ensuite à générer, au moyen d'un langage de modélisation graphique, un modèle spécifique de plateforme en particulier correspondant à une plateforme de calcul en particulier prise parmi les plateformes de calcul considérées. Le modèle de plateforme en particulier comporte un ou plusieurs modules d'extension spécifiques de plateforme correspondant à un composant spécifique de plateforme du cadriciel indépendant des plateformes et décrivant un comportement spécifique de plateforme par rapport à la plateforme de calcul en particulier.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)