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1. (WO2009139491) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/139491    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/059232
Date de publication : 19.11.2009 Date de dépôt international : 13.05.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
KANAYA, Yuho [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KANAYA, Yuho; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
61/071,694 13.05.2008 US
12/463,586 11.05.2009 US
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)In an exposure apparatus of a liquid immersion exposure method, there is a case when a wafer table (WTB) holding a wafer (W) moves, a liquid immersion area (ALq) formed by liquid supplied in a space between the wafer table (WTB) and a projection optical system (PL) passes over a head (60A to 60D) mounted on the wafer table(WTB). Therefore, for a head (60C) over which the liquid immersion area (ALq) has passed, the residual presence of the liquid is detected based on an amount of light of a reflected light received by the light receiving element which receives the reflected light from the wafer table surface. And, of a plurality of heads, positional information of the wafer table (WTB) is measured, based on measurement values of a head that had no liquid remaining in the detection.
(FR)Selon l'invention, dans un appareil d'exposition d'un procédé d'exposition par immersion dans un liquide, il existe un cas dans lequel, lorsqu'un porte-tranche (WTB) portant une tranche (W) se déplace, une zone d'immersion dans un liquide (ALq) formée par un liquide distribué dans un espace entre le porte-tranche (WTB) et un système optique de projection (PL) passe sur une tête (60A à 60D) montée sur le porte-tranche (WTB). Par conséquent, pour une tête (60C) sur laquelle la zone d'immersion dans un liquide (ALq) est passée, la présence résiduelle du liquide est détectée sur la base d'une quantité de lumière d'une lumière réfléchie reçue par l'élément de réception de lumière qui reçoit la lumière réfléchie provenant de la surface de porte-tranche. Et, parmi une pluralité de têtes, des informations de position du porte-tranche (WTB) sont mesurées, sur la base de valeurs de mesure d'une tête qui n'a pas de liquide restant dans la détection.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)