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1. WO2009139155 - DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE RECHERCHE DE DÉFAUTS

Numéro de publication WO/2009/139155
Date de publication 19.11.2009
N° de la demande internationale PCT/JP2009/002083
Date du dépôt international 13.05.2009
CIB
G01N 21/956 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956Inspection de motifs sur la surface d'objets
H01L 21/66 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement
CPC
G01N 2021/9563
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
9563and suppressing pattern images
G01N 21/9501
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
9501Semiconductor wafers
G01N 21/95607
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
95characterised by the material or shape of the object to be examined
956Inspecting patterns on the surface of objects
95607using a comparative method
Déposants
  • 株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 中野博之 NAKANO, Hiroyuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 前田俊二 MAEDA, Shunji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 中田俊彦 NAKATA, Toshihiko [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 中野博之 NAKANO, Hiroyuki
  • 前田俊二 MAEDA, Shunji
  • 中田俊彦 NAKATA, Toshihiko
Mandataires
  • ポレール特許業務法人 Polaire I.P.C.
Données relatives à la priorité
2008-12931416.05.2008JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) DEFECT INSPECTION DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING DEFECT
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE RECHERCHE DE DÉFAUTS
(JA) 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Abrégé
(EN)
A defect inspection device, which inspects defects such as foreign materials on a sample with a circuit pattern of wiring or the like, is provided with a lighting optical system that irradiates each of a plurality of linear beams to a different inspection area on the sample and an image forming optical system that forms images of the plurality of the irradiated areas on a plurality of detectors.  The detectors are configured to receive a plurality of polarization components substantially at the same time and individually, wherein the polarization components are different from each other and are contained in each of the plurality of the optical images formed by the image forming optical system, thereby detecting a plurality of signals corresponding to the polarization components and carrying out the inspection at high speed under a plurality of optical conditions.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de recherche de défauts tels que la présence de corps étrangers dans un échantillon. Ce dispositif qui met en œuvre des circuits électriques ou analogues comporte, d'une part un système optique illuminateur dirigeant une pluralité de rayons lumineux rectilignes, chacun en direction de différentes zones de l'échantillon à examiner, et d'autre part un système imageur optique formant sur une pluralité de détecteurs les images de la pluralité de zones illuminées. Les détecteurs sont configurés pour recevoir une pluralité de composantes de polarisation, de façon individuelle et sensiblement simultanée. En l'occurrence, les composantes de polarisation sont différentes les unes des autres et sont contenues dans chacune des images de la pluralité d'images optiques formées par le système optique de formation d'images, ce qui permet de détecter une pluralité de signaux correspondant aux composantes de polarisation et d'effectuer une recherche à grande vitesse sous diverses conditions optiques.
(JA)
配線等の回路パターンを有する試料上の異物等の欠陥を検査するための欠陥検査装置において、複数の直線状ビームの各々を試料上の異なる検査領域に照射する照明光学系と、該照射された複数の検査領域を検出器上に結像する結像光学系とを備え、前記検出器は、前記結像光学系で結像された複数の光像の各々に含まれる互いに異なる複数の偏光成分をほぼ同時にかつ個別に受光して前記複数の偏光成分に対応する複数の信号として検出するように構成し、複数の光学条件での検査を高速に行えるようにした。
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