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1. (WO2009139104) DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/139104    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/001301
Date de publication : 19.11.2009 Date de dépôt international : 24.03.2009
CIB :
G02F 1/1368 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
MISAKI, Katsunori; (US Seulement)
Inventeurs : MISAKI, Katsunori;
Mandataire : OKUDA, Seiji; OKUDA & ASSOCIATES, 10th Floor Osaka Securities Exchange Bldg. 8-16, Kitahama 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-126233 13.05.2008 JP
Titre (EN) LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a low-cost reflective or semi-transmissive liquid crystal display device having excellent light use efficiency. A method for manufacturing the liquid crystal display device, which is provided with a plurality of TFTs arranged corresponding to a plurality of pixels, respectively, and has reflecting sections in the pixels, respectively, includes a step of forming a metal layer having an opening on a substrate; a step of forming a semiconductor layer on the metal layer; a step of forming a protection layer on the semiconductor layer; a step of forming a resist layer on the protection layer; a photolithography step of irradiating the resist layer with light through the metal layer and patterning the protection layer by a photolithography method; and a step of laminating a reflecting layer on the patterned protection layer. A plurality of protruding sections are formed by using the protection layer in the photolithography step, and a plurality of protruding sections are formed on the reflecting layer, corresponding to the protruding sections on the protection layer.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'affichage à cristaux liquides réfléchissant ou semi-transmissif de faible coût présentant un rendement d'utilisation de lumière excellent. Un procédé de fabrication du dispositif d'affichage à cristaux liquides, lequel est doté d'une pluralité de TFT disposés de façon à correspondre respectivement à une pluralité de pixels, et comportant respectivement des sections réfléchissantes dans les pixels, comprend une étape de formation d'une couche de métal ayant une ouverture sur un substrat ; une étape de formation d'une couche protectrice sur la couche semiconductrice ; une étape de formation d'une couche de photorésist sur la couche protectrice ; une étape de photolithographie consistant à exposer la couche de photorésist à de la lumière à travers la couche de métal et à former des motifs dans la couche protectrice par un procédé de photolithographie ; et une étape de stratification d'une couche réfléchissante sur la couche de protection dotée de motifs. Une pluralité de sections saillantes est formée à l'aide de la couche protectrice à l'étape de photolithographie, et une pluralité de sections saillantes est formée sur la couche réfléchissante, correspondant aux sections saillantes de la couche protectrice.
(JA) 光の利用効率に優れた反射型又は半透過型液晶表示装置を低コストで提供する。  複数の画素のそれぞれに応じて配置された複数のTFTを備え、複数の画素のそれぞれの中に反射部を有する液晶表示装置の製造方法であって、基板の上に開口を有する金属層を形成する工程と、前記金属層の上に半導体層を形成する工程と、前記半導体層の上に保護層を形成する工程と、前記保護層の上にレジスト層を形成する工程と、前記金属層を介して前記レジスト層に光を照射し、フォトリソグラフィ法によって前記保護層をパターニングするフォトリソグラフィ工程と、パターニングした保護層の上に反射層を積層する工程と、を含み、フォトリソグラフィ工程において前記保護層により複数の凸部が形成され、前記反射層に前記保護層の複数の凸部に応じた複数の凸部が形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)