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1. (WO2009138063) COUCHE PROTECTRICE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/138063    N° de la demande internationale :    PCT/DE2009/000652
Date de publication : 19.11.2009 Date de dépôt international : 12.05.2009
CIB :
C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/16 (2006.01), F01D 5/28 (2006.01)
Déposants : MTU AERO ENGINES GMBH [DE/DE]; Dachauer Strasse 665 80995 München (DE) (Tous Sauf US).
EICHMANN, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HEUTLING, Falko [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
UIHLEIN, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : EICHMANN, Wolfgang; (DE).
HEUTLING, Falko; (DE).
UIHLEIN, Thomas; (DE)
Représentant
commun :
MTU AERO ENGINES GMBH [DE/DE]; Intellectual Property Management, Postfach 50 06 40, 80976 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 023 590.3 14.05.2008 DE
Titre (DE) SCHUTZSCHICHT UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER SCHUTZSCHICHT
(EN) PROTECTIVE LAYER AND METHOD FOR PRODUCING A PROTECTIVE LAYER
(FR) COUCHE PROTECTRICE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft eine Schutzschicht (100) für ein Bauteil (102), das ein erstes Material mit einem ersten Ruhepotential (211) aufweist. Die Schutzschicht (100) weist ein zweites Material auf, das ausgebildet ist, um eine Schutzwirkung der Schutzschicht zu bewirken und weist ein zweites Ruhepotential auf. Die Schutzschicht (100) weist ferner ein drittes Material mit einem dritten Ruhepotential auf, wobei das dritte Material ausgebildet ist, um eine Potentialdifferenz zwischen dem ersten Ruhepotential und einem vierten Ruhepotential der Schutzschicht zu verringern, wobei das vierte Ruhepotential von dem zweiten und dem dritten Ruhepotential abhängig ist.
(EN)The present invention relates to a protective layer (100) for a component (102), which comprises a first material having a first resting potential (211). The protective layer (100) comprises a second material, which is designed to bring about a protective effect of the protective layer and has a second resting potential. The protective layer (100) furthermore comprises a third material having a third resting potential, wherein the third material is designed to reduce a difference in potential between the first resting potential and a fourth resting potential, wherein the fourth resting potential is dependent on the second and third resting potentials.
(FR)La présente invention concerne une couche protectrice (100) destinée à une pièce (102) qui présente un premier matériau possédant un premier potentiel de repos (211). La couche protectrice (100) présente en outre un deuxième matériau qui assure l'effet protecteur de la couche protectrice et qui possède un deuxième potentiel de repos. Elle présente également un troisième matériau possédant un troisième potentiel de repos, le troisième matériau étant conçu pour réduire une différence de potentiel entre le premier potentiel de repos et un quatrième potentiel de repos dépendant du deuxième et du troisième potentiel de repos.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)