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1. (WO2009137773) APPAREIL ET PROCÉDÉS POUR TRAITEMENT THERMIQUE RAPIDE HYPERBARE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/137773    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/043305
Date de publication : 12.11.2009 Date de dépôt international : 08.05.2009
CIB :
H01L 21/324 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
RANISH, Joseph, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
SORABJI, Khurshed [US/US]; (US) (US Seulement).
LERNER, Alexander, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
HUNTER, Aaron, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RANISH, Joseph, M.; (US).
SORABJI, Khurshed; (US).
LERNER, Alexander, N.; (US).
HUNTER, Aaron, M.; (US)
Mandataire : SERVILLA, Scott, S.; DIEHL SERVILLA LLC 33 Wood Ave South Second Floor, Suite 201 Iselin, New Jersey 08830 (US)
Données relatives à la priorité :
61/051,889 09.05.2008 US
12/437,257 07.05.2009 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHODS FOR HYPERBARIC RAPID THERMAL PROCESSING
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS POUR TRAITEMENT THERMIQUE RAPIDE HYPERBARE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus for hyperbaric rapid thermal processing of a substrate are described. Methods of processing a substrate in a rapid thermal processing chamber are described that include passing a substrate from outside the chamber through an access port onto a support in the interior region of the processing chamber, closing a port door sealing the chamber, pressurizing the chamber to a pressure greater than 1.5 atmospheres absolute and directing radiant energy toward the substrate. Hyperbaric rapid thermal processing chambers are described which are constructed to withstand pressures greater than at least about 1.5 atmospheres absolute or, optionally, 2 atmospheres of absolute pressure. Processing chambers may include pressure control valves to control the pressure within the chamber.
(FR)L'invention concerne des procédés et un appareil pour le traitement thermique rapide hyperbare d'un substrat. Des procédés de traitement d'un substrat dans une chambre de traitement thermique sont décrits qui comprennent le passage d'un substrat de l'extérieur de la chambre à travers un orifice d'accès sur un support dans la région intérieure de la chambre de traitement, la fermeture d'une porte d'accès scellant la chambre, et la mise sous pression de la chambre à une pression supérieure à 1,5 atmosphère absolue et la direction d'énergie rayonnante vers le substrat. Des chambres de traitement thermique rapides hyperbares sont décrites qui sont construites pour résister à des pressions supérieures à au moins environ 1,5 atmosphère absolue ou, éventuellement 2 atmosphères de pression absolue. Des chambres de traitement peuvent comprendre des soupapes de régulation pour réguler la pression dans la chambre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)