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1. (WO2009136242) COMPOSITION DE REVÊTEMENT ANTIREFLET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/136242    N° de la demande internationale :    PCT/IB2009/005147
Date de publication : 12.11.2009 Date de dépôt international : 30.03.2009
CIB :
G03F 7/075 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue Somerville, NJ 08876 (US)
Inventeurs : MCKENZIE, Douglas; (US).
ABDALLAH, David; (US).
TIMKO, Allen, G.; (US).
RAHMAN, M., Dalil; (US)
Données relatives à la priorité :
12/115,776 06.05.2008 US
Titre (EN) AN ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE REVÊTEMENT ANTIREFLET
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an anti reflective coating composition comprising a polymer, a crosslinker and a thermal acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure (1), at least one unit of structure (2) and at least one unit of structure (3), where R1 to R9 is independently selected from H and C1-C6 alkyl, R' and R" is independently selected from H and C1-C6 alkyl, X is C1-C6 alkylene, Y is C1-C6 alkylene. The invention further relates to a process for imaging a photoresist coated over the antireflective coating composition.
(FR)L'invention porte sur une composition de revêtement antireflet comprenant un polymère, un agent de réticulation et un générateur d'acide thermique, le polymère comprenant au moins une unité de structure (1), au moins une unité de structure (2) et au moins une unité de structure (3), dans lesquelles R1 à R9 sont indépendamment choisis parmi H et un groupe alkyle en C1-C6, R' et R'' sont indépendamment choisis parmi H et un groupe alkyle en C1-C6, X est un alkylène en C1-C6, Y est un alkylène en C1-C6. L'invention porte en outre sur un procédé pour imager un photorésist déposé sur la composition de revêtement antireflet.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)