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1. (WO2009134865) DÉTECTION DE POINT D'EXTRÉMITÉ DANS UN POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE À L'AIDE DE MULTIPLES SPECTRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/134865    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/042085
Date de publication : 05.11.2009 Date de dépôt international : 29.04.2009
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
QIAN, Jun [CN/US]; (US) (US Seulement).
DHANDAPANI, Sivakumar [IN/US]; (US) (US Seulement).
LEE, Harry, Q. [US/US]; (US) (US Seulement).
OSTERHELD, Thomas, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHU, Zhize [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : QIAN, Jun; (US).
DHANDAPANI, Sivakumar; (US).
LEE, Harry, Q.; (US).
OSTERHELD, Thomas, H.; (US).
ZHU, Zhize; (US)
Mandataire : GOREN, David, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/049,965 02.05.2008 US
Titre (EN) ENDPOINT DETECTION IN CHEMICAL MECHANICAL POLISHING USING MULTIPLE SPECTRA
(FR) DÉTECTION DE POINT D'EXTRÉMITÉ DANS UN POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE À L'AIDE DE MULTIPLES SPECTRES
Abrégé : front page image
(EN)A computer implemented method includes obtaining at least one current spectrum with an in-situ optical monitoring system, comparing the current spectrum to a plurality of different reference spectra, and determining based on the comparing whether a polishing endpoint has been achieved for the substrate having the outermost layer undergoing polishing. The current spectrum is a spectrum of light reflected from a substrate having an outermost layer undergoing polishing and at least one underlying layer. The plurality of reference spectra represent spectra of light reflected from substrates with outermost layers having the same thickness and underlying layers having different thicknesses.
(FR)L'invention porte sur procédé mis en œuvre par ordinateur, qui comprend l'obtention d'au moins un spectre courant avec un système de surveillance optique in situ, la comparaison du spectre courant à une pluralité de différents spectres de référence, et la détermination, sur la base de la comparaison, du point de savoir si ou non un point d'extrémité de polissage a été obtenu pour le substrat ayant la couche la plus externe qui subit un polissage. Le spectre courant est un spectre de lumière réfléchie à partir d'un substrat ayant une couche la plus externe subissant un polissage et au moins une couche sous-jacente. La pluralité de spectres de référence représentent des spectres de lumière réfléchie à partir de substrats avec des couches les plus externes ayant la même épaisseur et des couches sous-jacentes ayant des épaisseurs différentes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)