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1. (WO2009133848) DISPOSITIF D'EXAMEN DES SURFACES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/133848    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/058272
Date de publication : 05.11.2009 Date de dépôt international : 27.04.2009
CIB :
G01N 21/956 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
MINATO, Kazuharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MINATO, Kazuharu; (JP)
Mandataire : OHNISHI, Shogo; S.OHNISHI & ASSOCIATES HIGASHI-IKEBUKURO SS BUILDING 1F 3-20-3, Higashi-Ikebukuro, Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-119500 01.05.2008 JP
Titre (EN) SURFACE EXAMINING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXAMEN DES SURFACES
(JA) 表面検査装置
Abrégé : front page image
(EN)A surface examining device includes a wafer holding unit (20) for holding a wafer (10), an examining light source (31, 32) for producing and shining linearly polarized examining light, and a light-receiving unit (33, 34) for detecting reflected light from an examination part on the surface of the wafer (10) when the examining light from the examining light source is directed to the examination part.  The examining light source is so disposed that the examining light from the examining light source strikes the surface of the examination part at the Brewster’s angle to the surface.  The light-receiving unit (33, 34) is so disposed in the position as to receive reflected and scattered light from the examination part and not to receive the examining light regularly reflected from the surface of the examination part.  The examination part is examined for defect detection by using the reflected and scattered light received by the light-receiving unit.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'examen des surfaces comprenant un ensemble de retenue d'une plaquette de silicium (20) destiné à maintenir en place une plaquette de silicium (10), une source de lumière servant à l'examen (31, 32) pour la production et la diffusion d'une lumière servant à l'examen, linéairement polarisée, et un ensemble de réception de la lumière (33, 34) pour la détection de la lumière réfléchie par une pièce à examiner à la surface de la plaquette de silicium (10) lorsque la lumière servant à l'examen en provenance de la source de lumière servant à l'examen est dirigée vers la pièce à examiner. La source de lumière servant à l'examen est disposée de façon à ce que la lumière servant à l'examen en provenance de la source de lumière servant à l'examen frappe la surface de la pièce à examiner selon un angle d'incidence brewstérienne par rapport à la surface. L'ensemble de réception de la lumière (33, 34) est disposé dans une position telle à recevoir la lumière réfléchie et diffusée à partir de la pièce à examiner, mais pas la lumière, servant à l'examen, régulièrement réfléchie à partir de la surface de la pièce à examiner. La pièce à examiner est examinée en vue de la détection de défauts au moyen de la lumière réfléchie et diffusée reçue par l'ensemble de réception de la lumière.
(JA) ウエハ(10)を保持するウエハ保持部(20)と、直線偏光の検査光を生成照射する検査光源(31,32)と、検査光源からの検査光をウエハ(10)の表面の検査部分に照射したときの検査部分からの反射光を検出する受光部(33,34)とを備えて表面検査装置が構成される。そして、検査光源からの検査光が検査部分の表面に対してブリュースター角で入射するように検査光源を配置し、且つ、検査光が検査部分の表面から正反射した光を避けて検査部分からの反射散乱光を受光する位置に受光部(33,34)を配置し、この受光部により受光した反射散乱光に基づいて検査部分の欠陥検査を行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)