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1. (WO2009133793) DISPERSION AQUEUSE POUR POLISSAGE MÉCANOCHIMIQUE, TROUSSE POUR PRÉPARER LA DISPERSION AQUEUSE POUR LEDIT POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE MÉCANOCHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/133793    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/057957
Date de publication : 05.11.2009 Date de dépôt international : 22.04.2009
CIB :
B24B 37/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (Tous Sauf US).
BABA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIDA, Hirotaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Takafumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUNITANI, Eiichirou [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : BABA, Atsushi; (JP).
SHIDA, Hirotaka; (JP).
SHIMIZU, Takafumi; (JP).
KUNITANI, Eiichirou; (JP)
Mandataire : OFUCHI, Michie; 2nd Floor, Ogikubo TM Bldg., 26-13, Ogikubo 5-chome, Suginami-ku, Tokyo 1670051 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-119694 01.05.2008 JP
Titre (EN) AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, KIT FOR PREPARING THE AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND METHOD OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
(FR) DISPERSION AQUEUSE POUR POLISSAGE MÉCANOCHIMIQUE, TROUSSE POUR PRÉPARER LA DISPERSION AQUEUSE POUR LEDIT POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE MÉCANOCHIMIQUE
(JA) 化学機械研磨用水系分散体および該化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット、ならびに化学機械研磨方法
Abrégé : front page image
(EN)An aqueous dispersion for chemical mechanical polishing is provided which contains (A) a compound represented by general formula (1), (B) a surfactant comprising at least one member selected from alkylbenzenesulfonic acids, alkylnaphthalenesulfonic acids, α-olefinsulfonic acids, and salts of these, (C) abrasive grains, and (D) an amino acid.
(FR)La présente invention concerne une dispersion aqueuse pour un polissage mécanochimique, qui contient (A) un composé représenté par la formule générale (1), (B) un agent tensioactif comprenant au moins un élément choisi parmi les acides alkylbenzènesulfoniques, les acides alkylnaphtalènesulfoniques, les acides α-oléfinesulfoniques et les sels de ceux-ci, (C) des grains abrasifs et (D) un acide aminé.
(JA)本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、(A)一般式(1)で示される化合物、(B)アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸、α-オレフィンスルホン酸、および、それらの塩、から選ばれる少なくとも1種である界面活性剤、(C)砥粒、(D)アミノ酸、を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)