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1. (WO2009133702) APPAREIL À PLATINE, APPAREIL DE FORMATION DE MOTIFS, APPAREIL D'EXPOSITION, APPAREIL D'ENTRAÎNEMENT DE PLATINE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/133702    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/001949
Date de publication : 05.11.2009 Date de dépôt international : 30.04.2009
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G01D 5/38 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SHIBAZAKI, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIBAZAKI, Yuichi; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-119233 30.04.2008 JP
Titre (EN) STAGE APPARATUS, PATTERNING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, STAGE DRIVE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE FABRICATION METHOD
(FR) APPAREIL À PLATINE, APPAREIL DE FORMATION DE MOTIFS, APPAREIL D'EXPOSITION, APPAREIL D'ENTRAÎNEMENT DE PLATINE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) ステージ装置、パターン形成装置、露光装置、ステージ駆動方法、露光方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A stage apparatus is equipped with a wafer stage, which has a coarse movement stage (91), which moves in the XY plane, a table (WTB), which is finely moveable in at least a direction parallel to the XY plane, on top of said coarse movement stage, and an encoder system. A plurality of encoder heads (60C, etc.) is provided on the coarse movement stage. Each head shines a respective measurement beam (LB1, LB2), etc. into a first grating (RG) that is disposed parallel to the XY plane and a second grating (RG2Y) provided on the table, and receives diffracted light from both the first and second gratings. The encoder system measures the position information for the table (wafer stage) within the XY plane based on the output from at least one of the encoder heads that faces the first and second gratings.
(FR)L'invention porte sur un appareil à platine équipé d'une platine de support de tranche, qui inclut une platine à mouvement grossier (91), qui se déplace dans le plan XY, une table (WTB) qui est déplaçable de façon fine dans au moins une direction parallèle au plan XY au-dessus de ladite platine à mouvement grossier, et un système codeur. Une pluralité de têtes de codage (60C, etc.) sont installées sur la platine à mouvement grossier. Chaque tête émet un faisceau de mesure respectif (LB1, LB2), etc. vers un premier réseau (RG) qui est agencé parallèle au plan XY et un second réseau (RG2Y) formé sur la table, et reçoit de la lumière diffractée provenant à la fois des premier et second réseaux. Le système codeur mesure les informations de position pour la table (platine de tranche) dans le plan XY, sur la base de la sortie provenant d'au moins une des têtes de codage qui fait face aux premier et second réseaux.
(JA) ステージ装置は、XY平面に沿って移動する粗動ステージ(91)と、該粗動ステージ上で、少なくともXY平面に平行な方向に微動可能なテーブル(WTB)とを有するウエハステージと、エンコーダシステムとを備えている。粗動ステージには、複数のエンコーダヘッド(60C等)が設けられている。各ヘッドは、XY平面に平行に配置された第1グレーティング部(RG)及びテーブルに設けられた第2グレーティング部(RG2Y)に、それぞれ計測ビーム(LB1,LB2)等を照射し、第1及び第2グレーティング部それぞれからの回折光を受光する。エンコーダシステムは、第1及び第2グレーティング部に対向する少なくとも1つのエンコーダヘッドの出力に基づいて、XY平面内におけるテーブル(ウエハステージ)の位置情報を計測する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)