WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009132810) PROCÉDÉ POUR ÉTALONNER UNE UNITÉ DE DÉVIATION DANS UN MICROSCOPE TIRF, MICROSCOPE TIRF ET PROCÉDÉ POUR LE FAIRE FONCTIONNER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/132810    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/003035
Date de publication : 05.11.2009 Date de dépôt international : 25.04.2009
CIB :
G02B 21/16 (2006.01), G01N 21/27 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS MICROIMAGING GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Promenade 10 07745 Jena (DE) (Tous Sauf US).
GONSCHOR, Mattias [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : GONSCHOR, Mattias; (DE)
Mandataire : SCHOLZE, Humbert; Carl Zeiss AG Standort Jena Carl-Zeiss-Promenade 10 07745 Jena (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 021 577.5 30.04.2008 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUM KALIBRIEREN EINER ABLENKEINHEIT IN EINEM TIRF-MIKROSKOP, TIRF-MIKROSKOP UND VERFAHREN ZU DESSEN BETRIEB
(EN) METHOD FOR CALIBRATING A DEFLECTION UNIT IN A TIRF MICROSCOPE, TIRF MICROSCOPE, AND METHOD FOR THE OPERATION THEREOF
(FR) PROCÉDÉ POUR ÉTALONNER UNE UNITÉ DE DÉVIATION DANS UN MICROSCOPE TIRF, MICROSCOPE TIRF ET PROCÉDÉ POUR LE FAIRE FONCTIONNER
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kalibrieren einer Ablenkeinheit in einem TIRF-Mikroskop, mit welcher ein Einfallswinkel von Anregungslicht auf eine Probe verstellt wird, bei dem eine Einstellung der Ablenkeinheit so gewählt wird, dass der zugehörige Einfallswinkel sicher größer ist oder sicher kleiner ist als ein erwarteter Grenzwinkel für die Totalreflexion des Anregungslichts an einer Oberfläche einer verwendeten Probe, bei dem der Einfallswinkel durch Ändern der Einstellung der Ablenkeinheit in Richtung eines erwarteten Grenzwinkels gescannt wird, wobei für jede Einstellung der Ablenkeinheit eine Intensität eines durch das Anregungslicht bewirkten optischen Response der verwendeten Probe gemessen wird, bei dem die Intensität des optischen Response der verwendeten Probe mindestens für so viele Einstellungen der Ablenkeinheit gemessen wird, bis die Intensität des optischen Response der verwendeten Probe eine Flanke durchläuft und bei dem die zu der Flanke gehörende Einstellung der Ablenkeinheit als Einstellung für den Grenzwinkel für Totalreflexion an der verwendeten Probe gespeichert wird.
(EN)The invention relates to a method for calibrating a deflection unit in a TIRF microscope, by means of which an incident angle of excitation light onto a sample is adjusted, wherein a setting of the deflection unit is selected such that the associated incident angle is definitely greater, or definitely smaller, than an anticipated critical angle for the total reflection of the excitation light on a surface of a sample that is utilized, wherein the incident angle is scanned by varying the setting of the deflection unit in the direction of an anticipated critical angle, wherein for each setting of the deflection unit an intensity of an optical response of the sample utilized that is effected by the excitation light is measured, wherein the intensity of the optical response of the sample utilized is measured at least for a number of settings of the deflection unit until the intensity of the optical response of the sample utilized passes through a flank, and wherein the setting of the deflection unit associated with the flank is stored as a setting for the critical angle for the total reflection of the sample utilized.
(FR)L'invention concerne un procédé pour l'étalonnage d'une unité de déviation dans un microscope TIRF, cette unité servant à ajuster un angle d'incidence de la lumière d'excitation sur un échantillon. Selon le procédé de l'invention, on sélectionne un réglage de l'unité de déviation tel que l'angle d'incidence associé est sûrement supérieur ou sûrement inférieur à un angle critique attendu pour la réflexion totale de la lumière d'excitation sur une surface d'un échantillon utilisé, on balaie l'angle d'incidence en modifiant le réglage de l'unité de déviation en direction d'un angle critique attendu, une intensité d'une réponse optique de l'échantillon utilisé provoquée par la lumière d'excitation étant mesurée pour chaque réglage de l'unité de déviation, on mesure l'intensité de la réponse optique de l'échantillon utilisé au moins pour autant de réglages de l'unité de déviation que nécessaire pour que l'intensité de la réponse optique de l'échantillon utilisé traverse un front, on sauvegarde le réglage de l'unité de déviation associé au front en tant que réglage correspondant à l'angle critique pour la réflexion totale sur l'échantillon utilisé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)