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1. (WO2009117674) APPAREIL, SYSTÈME ET PROCÉDÉS D'ANALYSE DE DISPOSITIFS SENSIBLES À LA PRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/117674    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/037833
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 20.03.2009
CIB :
G01L 27/00 (2006.01), G01L 7/00 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF UTAH RESEARCH FOUNDATION [US/US]; 615 Arapeen Drive, Ste. 310 Salt Lake City, UT 84108 (US) (Tous Sauf US).
ORTHNER, Michael [US/US]; (US) (US Seulement).
SOLZBACHER, Florian [DE/US]; (US) (US Seulement).
RIETH, Loren [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ORTHNER, Michael; (US).
SOLZBACHER, Florian; (US).
RIETH, Loren; (US)
Mandataire : ERICKSEN, Erik, S.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/038,306 20.03.2008 US
Titre (EN) APPARATUS, SYSTEM AND METHODS FOR ANALYZING PRESSURE-SENSITIVE DEVICES
(FR) APPAREIL, SYSTÈME ET PROCÉDÉS D'ANALYSE DE DISPOSITIFS SENSIBLES À LA PRESSION
Abrégé : front page image
(EN)A testing and analysis system for a pressure-sensitive device (42) that includes a testing stage (10) comprising a platform having an upper surface, a groove situated on the upper surface, an endless support gasket located in the endless groove, a pressure port located on the upper surface and interior to the endless groove, and a means for securing a substrate above the upper surface. The system also includes a substrate (40) supporting a pressure-sensitive device (42), such that the substrate (40) is secured above the upper surface and in contact with the endless support gasket to form a pressure chamber between the substrate (40) and the upper surface and in fluid communication with the pressure-sensitive device (42). The system further includes a pressure source (32) operatively connected to the pressure port and configured to modify a pressure inside the pressure chamber and deflect the pressure-sensitive device (42). The system further includes a surface profile measurement apparatus (104) for measuring a surface profile of the deflected pressure-sensitive device (42). This system allows for simultaneous measurement of electrical responses of the device (42) to changes in pressure.
(FR)Un système d'essai et d'analyse d'un dispositif sensible à la pression (42) comprend un étage d'essai (10) comprenant une plate-forme ayant une surface supérieure, une rainure située sur la surface supérieure, un joint de support sans fin situé dans la rainure sans fin, un orifice de pression situé sur la surface supérieure et à l’intérieur de la rainure sans fin et un moyen pour fixer un substrat au-dessus de la surface supérieure. Le système comprend également un substrat (40) supportant un dispositif sensible à la pression (42) de telle sorte que le substrat (40) soit fixé au-dessus de la surface supérieure et en contact avec le joint de support sans fin pour former une chambre de pression entre le substrat (40) et la surface supérieure, et qu’il soit en communication fluidique avec le dispositif sensible à la pression (42). Le système comprend en outre une source de pression (32) raccordée en fonctionnement à l'orifice de pression et configurée pour modifier une pression à l'intérieur de la chambre de pression et faire dévier le dispositif sensible à la pression (42). Le système comprend en outre un appareil de mesure de profil de surface (104) pour mesurer un profil de surface du dispositif sensible à la pression dévié (42). Ce système permet la mesure simultanée des réactions électriques du dispositif (42) aux changements de pression.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)