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1. (WO2009117612) ENSEMBLE ÉLÉMENT CHAUFFANT EN FORME DE COUVERCLE BLINDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/117612    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/037722
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 19.03.2009
CIB :
H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
WILLWERTH, Michael, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
PALAGASHVILI, David [US/US]; (US) (US Seulement).
TODOROW, Valentin, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
YUEN, Stephen [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WILLWERTH, Michael, D.; (US).
PALAGASHVILI, David; (US).
TODOROW, Valentin, N.; (US).
YUEN, Stephen; (US)
Mandataire : PATTERSON, B., Todd; (US).
TACKETT, Keith, M.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/038,510 21.03.2008 US
Titre (EN) SHIELDED LID HEATER ASSEMBLY
(FR) ENSEMBLE ÉLÉMENT CHAUFFANT EN FORME DE COUVERCLE BLINDÉ
Abrégé : front page image
(EN)A shielded lid heater lid heater suitable for use with a plasma processing chamber, a plasma processing chamber having a shielded lid heater and a method for plasma processing are provided. The method and apparatus enhances positional control of plasma location within a plasma processing chamber, and may be utilized in etch, deposition, implant, and thermal processing systems, among other applications where the control of plasma location is desirable. In one embodiment, a shielded lid heater is provided that includes an aluminum base and RF shield sandwiching a heater element.
(FR)La présente invention concerne un ensemble élément chauffant en forme de couvercle blindé adapté pour une utilisation avec une chambre de traitement au plasma, une telle chambre comportant un élément chauffant en forme de couvercle blindé et un procédé pour un traitement au plasma. Le procédé et l’appareil améliorent le contrôle de la position de l’emplacement du plasma au sein d’une chambre de traitement au plasma et peuvent être utilisés dans des systèmes de gravure, dépôt, implantation et traitement thermique, entre autres applications où le contrôle de l’emplacement du plasma est souhaitable. Dans un mode de réalisation, un élément chauffant en forme de couvercle blindé comprend une base d’aluminium et un blindage RF enserrant un élément chauffant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)