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1. (WO2009117048) SYSTÈME ET PROCÉDÉS D’ADMINISTRATION DE MATÉRIAU CIBLE DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE EUV À PLASMA CRÉÉ PAR LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/117048    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/000994
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 17.02.2009
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : CYMER, INC. [US/US]; (a Nevada Corporation), 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92128-2413 (US) (Tous Sauf US).
VASCHENKO, Georgiy, O. [RU/US]; (US) (US Seulement).
BYKANOV, Alexander, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
BOWERING, Norbert, R. [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BRANDT, David, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
ERSHOV, Alexander, I. [US/US]; (US) (US Seulement).
SIMMONS, Rodney, D. [GB/US]; (US) (US Seulement).
KHODYKIN, Oleh, V. [US/US]; (US) (US Seulement).
FOMENKOV, Igor, V. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : VASCHENKO, Georgiy, O.; (US).
BYKANOV, Alexander, N.; (US).
BOWERING, Norbert, R.; (DE).
BRANDT, David, C.; (US).
ERSHOV, Alexander, I.; (US).
SIMMONS, Rodney, D.; (US).
KHODYKIN, Oleh, V.; (US).
FOMENKOV, Igor, V.; (US)
Mandataire : HILLMAN, Matthew, K.; Cymer, Inc., Legal Dept. Ms/4-2D, 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US)
Données relatives à la priorité :
61/069,818 17.03.2008 US
12/214,736 19.06.2008 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHODS FOR TARGET MATERIAL DELIVERY IN A LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉS D’ADMINISTRATION DE MATÉRIAU CIBLE DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE EUV À PLASMA CRÉÉ PAR LASER
Abrégé : front page image
(EN)Devices are disclosed herein which may comprise an EUV reflective optic having a surface of revolution that defines a rotation axis and a circular periphery. The optic may be positioned to incline the axis at a nonzero angle relative to a horizontal plane, and to establish a vertical projection of the periphery in the horizontal plane with the periphery projection bounding a region in the horizontal plane. The device may further comprise a system delivering target material, the system having a target material release point that is located in the horizontal plane and outside the region, bounded by the periphery projection and a system generating a laser beam for irradiating the target material to generate an EUV emission.
(FR)L’invention concerne des dispositifs pouvant inclure une optique réfléchissant le rayonnement EUV possédant une surface de révolution définissant un axe de rotation et une périphérie circulaire. L’optique peut être positionnée de manière à obtenir une inclinaison de l’axe à un angle non nul par rapport à un plan horizontal, et à établir une projection verticale de la périphérie dans le plan horizontal, la projection de la périphérie délimitant une zone dans le plan horizontal. Le dispositif peut en outre inclure un système permettant l’administration de matériau cible, ledit système présentant un point de libération du matériau cible situé dans le plan horizontal et à l’extérieur de la zone délimitée par la projection de la périphérie, et ledit système générant un faisceau laser servant à irradier le matériau cible pour générer une émission de rayonnement EUV.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)