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1. (WO2009116833) DISPOSITIF DE TRAITEMENT À PRESSION NÉGATIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/116833    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/001428
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 20.03.2009
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : IPS LTD. [KR/KR]; 33, Jije-dong Pyeongtaek-city, Gyeonggi-do 450-090 (KR) (Tous Sauf US).
CHO, Saeng-Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JI, Dong Jun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : CHO, Saeng-Hyun; (KR).
JI, Dong Jun; (KR)
Mandataire : B&IP PATENT AND LAW FIRM; Youjeong Bldg.5th Fl. 720-21, Yeoksam 2-dong, Gangnam-gu Seoul 135-920 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0025789 20.03.2008 KR
Titre (EN) VACUUM PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT À PRESSION NÉGATIVE
(KO) 진공처리장치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a vacuum processing apparatus, more particularly to a vacuum processing apparatus which performs vacuum processes such as etching and deposition for a substrate of glass for an LCD panel, etc. The disclosed vacuum processing apparatus includes: a detachable cover which is attached to at least a part of an inner side of a vacuum chamber; and/or a detachable shielding member which is installed between a lateral side of a substrate support and the inner side of the vacuum chamber to shield a space therebetween. A coating layer containing at least one of W, Ni, W-N, Cr and Mo is formed on the surfaces of the cover and shielding member.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement à pression négative, plus précisément un tel dispositif effectuant des opérations sous vide, du type attaque et dépôt en liaison avec un substrat en verre pour panneau à cristaux liquides, etc. Ce dispositif comprend: couvercle détachable fixé au moins à une partie de côté interne de chambre à vide, et/ou élément de protection détachable situé entre un côté latéral de support de substrat et le côté interne de ladite chambre pour protéger un espace défini par l'intervalle considéré. Une couche de revêtement contenant W, Ni, W-N, Cr et/ou Mo est formée sur les surfaces du couvercle et de l'élément de protection.
(KO)본 발명은 진공처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LCD 패널용 유리 등의 기판에 대하여 식각, 증착 등의 진공처리를 수행하는 진공처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 진공챔버의 내면 중 적어도 일부에 탈착가능하게 밀착결합되며 표면에 W, Ni, W-N, Cr 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 코팅층이 형성된 커버부재 및/또는 기판지지대의 측면과 진공챔버의 내면 사이에 설치되어 기판지지대의 측면과 진공챔버의 내면 사이의 공간을 차폐하도록 탈착가능하게 설치되며 표면에 W, Ni, W-N, Cr 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 코팅층이 형성된 차폐부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치를 개시한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)