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1. (WO2009116829) PROCÉDÉ DE DISPERSION DE NANOSTRUCTURES ET PROCÉDÉ D'ADSORPTION DE NANOSTRUCTURES SUR LA SURFACE D'UN SOLIDE À L'AIDE DES NANOSTRUCTURES DISPERSÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/116829    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/001423
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 19.03.2009
CIB :
B82B 3/00 (2006.01), C01B 33/00 (2006.01)
Déposants : SEOUL NATIONAL UNIVERSITY INDUSTRY FOUNDATION [KR/KR]; San 4-2, Bongcheon 7-dong, Gwanak-gu Seoul 151-919 (KR) (Tous Sauf US).
HONG, Seung-Hun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HEO, Kwang [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Min-Baek [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : HONG, Seung-Hun; (KR).
HEO, Kwang; (KR).
LEE, Min-Baek; (KR)
Mandataire : SHINSUNG PATENT FIRM; ID Tower #601, Jungdaero 105 (99-7 Garak-dong), Songpa-gu Seoul 138-805 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0026068 20.03.2008 KR
10-2009-0023558 19.03.2009 KR
Titre (EN) METHOD FOR DISPERSING NANOSTRUCTURES AND METHOD FOR ADSORBING NANOSTRUCTURES ON THE SURFACE OF SOLID USING THE DISPERSED NANOSTRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ DE DISPERSION DE NANOSTRUCTURES ET PROCÉDÉ D'ADSORPTION DE NANOSTRUCTURES SUR LA SURFACE D'UN SOLIDE À L'AIDE DES NANOSTRUCTURES DISPERSÉES
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for dispersing nanostructures, the method including: adsorbing functional molecules on the surface of nanostructures; and dispersing the nanostructures on which the functional molecules are adsorbed in a solvent to form a nanostructure-containing solution. Moreover, disclosed is a method for selectively adsorbing nanostructures, the method including: adsorbing functional molecules on the surface of nanostructures; dispersing the nanostructures on which the functional molecules are adsorbed in a solvent to form a nanostructure-containing solution; patterning a molecular membrane for patterning a solid surface on which the nanostructures are to be adsorbed with a molecular membrane for patterning, which has a higher interface energy for the nanostructures than that of the solid surface, in a predetermined form; and immersing the patterned solid in the nanostructure-containing solution or dripping the nanostructure-containing solution onto the solid surface on which the nanostructures are to be adsorbed and evaporating solvent from the solution to selectively adsorb and align the nanostructures on the surface of solid on which the molecular membrane for patterning has not been formed.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour disperser des nanostructures, le procédé comprenant : l'adsorption de molécules fonctionnelles sur la surface de nanostructures, et la dispersion des nanostructures sur lesquelles les molécules fonctionnelles sont adsorbées dans un solvant pour former une solution contenant des nanostructures. De plus, l'invention porte sur un procédé pour adsorber sélectivement des nanostructures, le procédé consistant : à adsorber des molécules fonctionnelles sur la surface de nanostructures; à disperser les nanostructures sur lesquelles les molécules fonctionnelles sont adsorbées dans un solvant pour former une solution contenant des nanostructures; à créer des motifs sur une membrane moléculaire, en une forme prédéterminée, pour la création d'un motif sur une surface solide, sur laquelle les nanostructures doivent être adsorbées, avec une membrane moléculaire pour la création de motif qui a une énergie d'interface pour les nanostructures supérieure à celle de la surface solide, et à immerger le solide à motif dans la solution contenant des nanostructures ou à faire tomber goutte à goutte la solution contenant les nanostructures sur la surface solide sur laquelle les nanostructures doivent être adsorbées et à évaporer le solvant de la solution pour adsorber et aligner sélectivement les nanostructures sur la surface du solide sur laquelle la membrane moléculaire de formation de motif n'a pas été formée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)