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1. (WO2009116660) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN PRODUIT À MOTIF BIRÉFRINGENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/116660    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/055569
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 16.03.2009
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), B42D 15/10 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
KANEIWA, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AMIMORI, Ichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KANEIWA, Hideki; (JP).
AMIMORI, Ichiro; (JP)
Mandataire : IIDA, Toshizo; ISHII Bldg. 3F, 1-10, Shimbashi 3-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-069827 18.03.2008 JP
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING A PATTERNED BIREFRINGENT PRODUCT
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN PRODUIT À MOTIF BIRÉFRINGENT
Abrégé : front page image
(EN)A method of producing a patterned birefringent product, having at least steps (I) to (III) in this order: (I) providing a birefringent pattern builder having an optically anisotropic layer containing a polymer having unreacted reactive groups; (II) heating a region of the birefringent pattern builder; and (III) subjecting the birefringent pattern builder to a process that reacts at least a part of the unreacted reactive groups in the optically anisotropic layer.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un produit à motif biréfringent comprenant, dans l'ordre suivant, au moins des étapes (I) à (III) consistant : (I) à fournir un dispositif de formation de motif biréfringent comportant une couche optiquement anisotrope contenant un polymère comprenant des groupes réactifs non soumis à réaction ; (II) à chauffer une région du dispositif de formation de motif biréfringent ; et (III) à soumettre le dispositif de formation de motif biréfringent à un procédé qui fait réagir une partie des groupes réactifs non soumis à réaction de la couche optiquement anisotrope.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)