WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2009116591) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET PIÈCE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/116591    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/055335
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 18.03.2009
CIB :
G02B 6/13 (2006.01)
Déposants : Murata Manufacturing Co., Ltd. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto, 6178555 (JP) (Tous Sauf US).
KUMATORIYA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUJII, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAO, Kazuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIURA, Kiyotaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KUMATORIYA, Makoto; (JP).
FUJII, Takashi; (JP).
HIRAO, Kazuyuki; (JP).
MIURA, Kiyotaka; (JP)
Mandataire : KUNIHIRO, Yasutoshi; 10F Katokichi shinosaka Bldg., 14-10, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 532-0011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-070704 19.03.2008 JP
Titre (EN) OPTICAL WAVEGUIDE MANUFACTURING METHOD AND OPTICAL PART
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET PIÈCE OPTIQUE
(JA) 光導波路の製造方法、及び光学部品
Abrégé : front page image
(EN)A laser beam having an ultra-short pulse width (preferably, not greater than 100 fs) and emitted with a predetermined repetition frequency (preferably, 100 to 250 kHz) is applied with a pulse energy of 1.5 &mgr;J or above to a substrate (an LT substrate)(2) formed from LiTiO3 in such a manner that the focusing position F is at the depth not greater than 50 &mgr;m from the surface of the LT substrate (2). The laser beam is used to scan the substrate and form a light propagation unit having a higher refraction index than the substrate on the focusing position. Moreover, a femto second laser is used as a laser emission source. Thus, even when an ultra-short pulse laser beam is used, it is possible to easily manufacture an optical waveguide having no polarization dependency.
(FR)L'invention porte sur un faisceau laser ayant une largeur d'impulsion ultra-courte (de préférence, non supérieure à 100 fs) et émis avec une fréquence de répétition prédéterminée (de préférence, de 100 à 250 kHz), qui est appliqué avec une énergie d'impulsion d'au moins 1,5 µJ sur un substrat (un substrat LT) (2) formé de LiTiO3, de façon telle que la position de focalisation F se situe au niveau d'une profondeur qui n'est pas supérieure à 50 µm de la surface du substrat LT (2). Le faisceau laser est utilisé pour balayer le substrat et pour former une unité de propagation de lumière ayant un indice de réfraction supérieur au substrat sur la position de focalisation. De plus, un second laser femto est utilisé en tant que source d'émission laser. Ainsi, même lorsqu'un faisceau laser d'impulsion ultra-courte est utilisé, il est possible de fabriquer aisément un guide d'ondes optique n'ayant pas de dépendance de polarisation.
(JA) LiTiOからなる基板(LT基板)2に対し、該LT基板2の表面から50μm以内の深さを集光位置Fとし、超短パルスのパルス幅(好ましくは、100fs以下)を有しかつ所定の繰り返し周波数(好ましくは、100~250kHz)波で出射するレーザ光を1.5μJ以上のパルスエネギーで前記基板に照射すると共に、前記レーザ光で前記基板を走査し、前記基板よりも屈折率の高い光伝播部を前記集光位置に形成する。また、レーザの照射源としてフェムト秒レーザを使用する。これにより超短パルスのレーザ光を使用した場合であっても、偏光依存性のない光導波路を容易に製造できるようにする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)