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1. (WO2009116470) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE PRODUCTION D'UN FILM DE COMPENSATION OPTIQUE, FILM DE COMPENSATION OPTIQUE, POLARISEUR ET AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/116470    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054919
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 13.03.2009
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), G02F 1/13363 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
OKI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIMURA, Hirokazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUOKA, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIOJIRI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Syun [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKI, Kazuhiro; (JP).
NISHIMURA, Hirokazu; (JP).
MATSUOKA, Akihiro; (JP).
SHIOJIRI, Kazuhiro; (JP).
NAKAMURA, Syun; (JP)
Mandataire : MATSUURA, Kenzo; Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 39F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 1630239 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-073745 21.03.2008 JP
Titre (EN) PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCING OPTICAL COMPENSATION FILM, OPTICAL COMPENSATION FILM, POLARIZER, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE PRODUCTION D'UN FILM DE COMPENSATION OPTIQUE, FILM DE COMPENSATION OPTIQUE, POLARISEUR ET AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 光学補償フィルムの製造方法および製造装置、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing an optical compensation film which comprises: a liquid-crystal-layer application step (10) in which a transparent substrate (4c) which has an alignment layer on a surface thereof is conveyed continuously and a coating fluid for liquid-crystal layer formation which contains a liquid-crystalline compound is applied to the alignment layer; a liquid-crystal-layer drying step (11) in which the liquid-crystal layer is dried; a cooling/hardening step in which the liquid-crystal layer is hardened while being cooled to a temperature lower than the drying temperature used in the drying step; and a heating/hardening step in which the alignment layer is hardened while being heated to a temperature higher than the cooling temperature used in the cooling/hardening step. As a result, the durability and mar resistance of an optical compensation film can be controlled independently of the optical properties of the film.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un film de compensation optique qui comprend: une étape d'application (10) d'une couche de cristaux liquides dans laquelle un substrat transparent (4c) comportant une couche d'alignement sur une surface de ce dernier, est acheminé en continu et un fluide de revêtement pour la formation de la couche de cristaux liquides qui contient un composé de cristaux liquides est appliqué sur la couche d'alignement; une étape de séchage (11) de la couche de cristaux liquides dans laquelle la couche de cristaux liquides est séchée; une étape de refroidissement/durcissement dans laquelle la couche de cristaux liquides est durcie alors qu'elle se trouve refroidie à une température inférieure à la température de séchage utilisée dans l'étape de séchage; et une étape de chauffage/durcissement dans laquelle la couche d'alignement est durcie alors qu'elle se trouve chauffée à une température supérieure à la température de refroidissement utilisée dans l'étape de refroidissement/durcissement. Ainsi la durabilité et la résistance aux éraflures d'un film de compensation optique peuvent être commandées indépendamment des propriétés optiques du film.
(JA) 光学補償フィルムの製造方法は、表面に配向層を有し、連続的に搬送される透明支持体(4c)上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液を配向層上に塗布する液晶層塗布工程(10)と、液晶層を乾燥する液晶層乾燥工程(11)と、乾燥工程の乾燥温度より低い温度に冷却した状態で、液晶層を硬膜する冷却硬膜工程と、冷却硬膜工程の冷却温度より高い温度に加熱した状態で、配向層を硬膜する加熱硬膜工程と、を有する。これにより、光学補償フィルムの耐久性や耐傷性とフィルムの光学特性を独立して制御できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)