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1. (WO2009116421) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GUIDE D'ONDES OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/116421    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/054499
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 10.03.2009
CIB :
G02B 6/13 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 1630449 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAGUCHI, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIBATA, Tomoaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAGUCHI, Masatoshi; (JP).
SHIBATA, Tomoaki; (JP).
TAKAHASHI, Atsushi; (JP)
Mandataire : OHTANI, Tamotsu; OHTANI PATENT OFFICE, Bridgestone Toranomon Bldg. 6F., 25-2, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-070130 18.03.2008 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GUIDE D'ONDES OPTIQUE
(JA) 光導波路の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing an optical waveguide, which comprises a step of forming a lower cladding layer by curing a cladding layer-forming resin applied onto a substrate, a step of forming a core layer by arranging a core layer-forming resin film on the lower cladding layer, a step of forming a core pattern by exposing and developing the core layer, and a step of forming an upper cladding layer by curing a cladding layer-forming resin which is so applied as to bury the core pattern therein. The method for manufacturing an optical waveguide is characterized in that the core layer-forming step is performed by thermal compression bonding of the core layer-forming resin film onto the lower cladding layer using a roll laminator and the upper cladding layer-forming step is performed by thermal compression bonding in a reduced pressure atmosphere using a plate laminator. By this method, an optical waveguide having a uniform core can be manufactured with high productivity.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un guide d'ondes optique, qui comprend les étapes consistant à: former une couche de gaine inférieure en traitant une résine formant une couche de gaine et qui est appliquée sur un substrat; former une couche de cœur en appliquant un film de résine formant une couche de cœur sur la couche de gaine inférieure; former un motif de cœur en exposant et en développant la couche de cœur; et former une couche de gaine supérieure en traitant une résine formant une couche de gaine et qui est appliquée de manière à enfouir le motif de coeur. Le procédé de fabrication du guide d'ondes optique est caractérisé en ce que l'étape de formation de la couche de cœur est mise en œuvre par liaison par compression thermique du film de résine formant la couche de cœur sur la couche de gaine inférieure au moyen d'un poste de laminage à cylindre, et l'étape de formation de la couche de gaine supérieure est mise en œuvre par liaison par compression thermique dans une atmosphère à pression réduite au moyen d'un poste de laminage à plaque. Ce procédé permet de fabriquer un guide d'ondes optique à cœur uniforme avec une productivité élevée.
(JA) 基材上に形成されたクラッド層形成用樹脂を硬化して下部クラッド層を形成する工程、該下部クラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムを積層してコア層を形成する工程、該コア層を露光現像してコアパターンを形成する工程、および該コアパターンを埋め込むように形成されたクラッド層形成用樹脂を硬化して、上部クラッド層を形成する工程を有する光導波路の製造方法であって、該コア層を形成する工程が、ロールラミネータを用いて、下部クラッド層上にコア層形成用樹脂フィルムを加熱圧着するものであり、該上部クラッド層を形成する工程が平板型ラミネータを用いて減圧雰囲気下で加熱圧着するものであることを特徴とする光導波路の製造方法である。  均一なコアを有する光導波路を生産性良く製造する方法を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)