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1. (WO2009115180) OBJECTIF DE PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/115180    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/001448
Date de publication : 24.09.2009 Date de dépôt international : 28.02.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
ZELLNER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MANN, Hans-Jürgen [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ENDRES, Martin [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : ZELLNER, Johannes; (DE).
MANN, Hans-Jürgen; (DE).
ENDRES, Martin; (DE)
Mandataire : HOFMANN, Matthias; Rau, Schneck & Hübner Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2008 000 800.1 20.03.2008 DE
10 2008 033 342.5 16.07.2008 DE
Titre (EN) PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)A projection objective (7) for microlithography is used for imaging an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). The projection objective (7) comprises at least six mirrors (M1 to M6) of which at least one mirror has a freeform reflecting surface. According to one aspect of the invention, the ratio between an overall length (T) of the projection objective (7) and an object image shift (dOIS) is smaller than 12. According to another aspect of the invention, the image plane (9) is the first field plane of the projection objective (7) downstream of the object plane (5). According to another aspect of the invention, the projection objective has a plurality of mirrors (M1 to M6), wherein the ratio between an overall length (T) and an object image shift (dOIS) is smaller than 2.
(FR)L'invention concerne un objectif de projection (7) pour microlithographie qui est utilisé pour représenter une image d'un champ d'objet (4) d'un plan d'objet (5) dans un champ d'image (8) d'un plan d'image (9). L'objectif de projection (7) comprend au moins six miroirs (M1 à M6) dont au moins un comporte une surface réfléchissante de forme libre. Selon un aspect de l'invention, le rapport entre une longueur totale (T) de l'objectif de projection (7) et un décalage d'image d'objet (dois) est inférieur à 12. Selon un autre aspect de l'invention, le plan d'image (9) est le premier plan de champ de l'objectif de projection (7) situé en aval du plan d'objet (5). Conformément à un autre aspect de l'invention, l'objectif de projection comprend une pluralité de miroirs (M1 à M6), le rapport entre une longueur totale (T) et un décalage d'une image d'objet (dois) étant inférieur à 2.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)